[发明专利]一种高均匀度图形化多点源阵列蒸发镀膜装置在审
| 申请号： | 201611137800.3 | 申请日： | 2016-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN106498347A | 公开（公告）日： | 2017-03-15 |
| 发明（设计）人： | 郭太良;叶芸;张永爱;严群;徐中炜;吕珊红 | 申请（专利权）人： | 福州大学 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/04;H01L51/56 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司35100 | 代理人： | 蔡学俊,丘鸿超 |
| 地址： | 350002 福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种高均匀度图形化多点源阵列蒸发镀膜装置。包括微型蒸发源阵列、基板传动装置，所述微型蒸发源阵列中的微型蒸发源蒸发口径小，并通过快门开关控制蒸发；所述微型蒸发源阵列由复数个微型蒸发源阵列排布而成。本发明装置，使用微型蒸发源阵列有效加快了蒸发成膜的速度、并且保持了原有的高可控性，保证了材料的节约有效使用，实现了大型面板的蒸镀可能和高均匀性，特别的具有了无掩模板蒸镀图形化，免除了掩模板所带来的不足。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 均匀 图形 多点 阵列 蒸发 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种高均匀度图形化多点源阵列蒸发镀膜装置，包括微型蒸发源阵列、基板传动装置，其特征在于：所述微型蒸发源阵列中的微型蒸发源蒸发口径小，并通过快门开关控制蒸发。
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