[发明专利]一种采用磁控溅射法制备高附着力镀铝膜的方法有效
| 申请号： | 201610996213.3 | 申请日： | 2016-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN106521440B | 公开（公告）日： | 2019-02-15 |
| 发明（设计）人： | 张海宝;陈强;杨丽珍;袁燕 | 申请（专利权）人： | 北京印刷学院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/26;C23C14/30;C23C14/20;C23C14/02 |
| 代理公司： | 北京蓝智辉煌知识产权代理事务所(普通合伙) 11345 | 代理人： | 陈红;杜秀科 |
| 地址： | 102600 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种采用磁控溅射法制备高附着力镀铝膜的方法，属于柔性包装薄膜材料制备技术领域。本发明是以磁控溅射法在聚合物薄膜表面沉积金属缓冲层，然后经真空蒸镀工艺沉积铝膜，获得高附着力镀铝膜。该制备工艺主要包括以下步骤：在磁控溅射腔室放置聚合物薄膜并将溅射腔室抽真空至6×10‑3Pa以下；开启磁控溅射电源，沉积金属缓冲层；以沉积有金属缓冲层的聚合物薄膜为基底在蒸发镀膜机中蒸镀铝膜，获得高附着力的镀铝膜。本发明可通过磁控溅射的工艺极大地增强镀铝膜的附着性能，可获得附着力在10N/15mm以上的高附着性能镀铝膜，溅射过程清洁环保，产品附加值高，工艺简单，容易产业化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 采用 磁控溅射 法制 附着力 镀铝 方法 | ||
【主权项】：
1.一种采用磁控溅射法制备高附着力镀铝膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：1)将镀膜柔性基材放入磁控溅射装置，然后抽真空至本底气压6×10‑3Pa以下；镀膜柔性基材选自聚酯、聚乙烯、聚丙烯或双向拉伸聚丙烯薄膜；磁控溅射装置电源采用直流、中频或高功率脉冲；2)采用磁控溅射工艺溅射金属缓冲层，溅射气体为惰性气体，溅射靶材为金属；3)将沉积有缓冲层的镀膜柔性基材送入镀膜室镀铝。
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