[发明专利]存储器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201610907219.9 申请日: 2016-10-19
公开(公告)号: CN106783857B 公开(公告)日: 2020-06-12
发明(设计)人: 藤原英弘;詹伟闵;林志宇;陈炎辉;廖宏仁 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/11 分类号: H01L27/11;H01L23/528;H01L21/8244
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开了一种存储器件,包括:存储器位单元、第一字线、成对的金属岛状件和成对的连接金属线。第一字线设置在第一金属层中并且电连接至存储器位单元。成对的金属岛状件在第一金属层中设置在字线的相对两侧处并且电连接至电源。成对的连接金属线设置在第二金属层中并且配置成将金属岛状件分别电连接至存储器位单元。本发明还提供了用于制造存储器件的方法。
搜索关键词: 存储 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种存储器件,包括:存储器位单元;字线,设置在第一金属层中并且电连接至所述存储器位单元;成对的金属岛状件,在所述第一金属层中设置在所述字线的相对侧处并且电连接至电源;以及成对的连接金属线,设置在第二金属层中并且配置成将所述金属岛状件分别电连接至所述存储器位单元。
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