[发明专利]照明均匀性校正装置、校正方法以及一种曝光投影系统在审
| 申请号： | 201610874597.1 | 申请日： | 2016-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN107885038A | 公开（公告）日： | 2018-04-06 |
| 发明（设计）人： | 孙文凤 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅,李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种照明均匀性校正装置、校正方法以及一种曝光投影系统，校正装置包括可变遮光校正装置，包括若干设置在照明光束横截面的校正组件对，若干校正组件对沿非扫描方向间隔排列设置以覆盖整个照明场，沿扫描方向重叠设置以覆盖整个照明场；可变灰度补偿板装置，包括两片可相对移动的不同灰度透过率的平板；及可变反射镜阵列装置，包括可变反射镜光学装置，可变反射镜光学装置由多个可变反射率的反射镜阵列组成，通过调节校正组件对的形状和重叠方式、平板的透过率及反射镜阵列的反射率，调节多个照明模式下整个照明场的照明均匀性。本发明解决了频繁更换灰度补偿板，及多种照明模式情况下光瞳均匀性和视场积分均匀性不能都满足性能的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 照明 均匀 校正 装置 方法 以及 一种 曝光 投影 系统 | ||
【主权项】：
一种照明均匀性校正装置，设置于掩模版上方，其特征在于，包括：可变遮光校正装置，包括若干设置在照明光束横截面的校正组件对，若干所述校正组件对沿非扫描方向间隔排列设置以覆盖整个照明场，沿扫描方向重叠设置以覆盖整个所述照明场；可变灰度补偿板装置，包括两片可相对移动的不同灰度透过率的平板；以及可变反射镜阵列装置，包括可变反射镜光学装置，所述可变反射镜光学装置由多个可变反射率的反射镜阵列组成，通过调节所述校正组件对的形状和重叠方式、所述平板的透过率以及所述反射镜阵列的反射率，调节多个照明模式下整个所述照明场的照明均匀性。
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