[发明专利]一种用于光刻版图OPC的采样方法及装置有效
| 申请号： | 201610843995.7 | 申请日： | 2016-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN106200279B | 公开（公告）日： | 2018-06-26 |
| 发明（设计）人： | 金晓亮;袁春雨 | 申请（专利权）人： | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 张振军;吴敏 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于光刻版图OPC的采样方法及装置，所述方法包括对待OPC的版图中的图形进行小波分解，以得到不同阶次的小波矩阵；根据所述不同阶次的小波矩阵进行小波重构，以完成离散化采样，所述离散化采样的结果用于进行OPC中的仿真。所述方法及装置可以提升现有技术中对待OPC版图进行采样的精确度和效率。 | ||
| 搜索关键词： | 采样 矩阵 离散化 光刻 小波 小波分解 小波重构 | ||
【主权项】：
1.一种用于光刻版图OPC的采样方法，其特征在于，包括：对待OPC的版图中的图形进行小波分解，以得到不同阶次的小波矩阵；根据所述不同阶次的小波矩阵进行小波重构，以完成离散化采样，所述离散化采样的结果用于进行OPC中的仿真；对待OPC的版图中的图形进行小波分解，以得到不同阶次的小波矩阵包括：建立覆盖所述待OPC的版图的采样区域的采样网格线，所述采样网格线的密度由目标级数的小波阶次确定，所述目标级数根据采样精度确定；利用目标级数的小波基遍历所述图形的边界，以建立相关小波的索引，所述相关小波的索引包括：所述图形的边界与所述不同阶次的小波基相交的子块；根据所述不同阶次的小波基的子块，计算所述不同阶次的小波矩阵。
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