[发明专利]一种多功能立式连续磁控溅射镀膜系统

摘要

本发明揭示了多功能立式连续磁控溅射镀膜系统，包括A功能区和B功能区、承载台车，还包括依次设置的进口室、一号一级转换室、一号二级转换室、镀膜前变速室、连续设置的十五个工艺室、镀膜后变速室、二号一级转换室、二号二级转换室、出口室；每一个工艺室的一面设置一台分子泵，工艺室的另一面设置靶，靶包括铌靶、硅靶、氧化铟锡靶、钼靶和铝靶，钼靶和铝靶在同一个工艺室的同一面分别设置两支，承载台车上设有镀膜装片室，工艺室的每一支靶均设有开启和关闭两种模式，此种镀膜线的配置可生产OGS、单面消影ITO、双面消影ITO三种产品，产品多样化，简化了工艺流程，缩减了人员用工成本，工艺更加稳定，减少调试及维护时间，提高了产量。

主权项

1.一种多功能立式连续磁控溅射镀膜系统，其特征在于，包括A功能区和B功能区、承载台车，还包括依次设置的进口室、一号一级转换室、一号二级转换室、镀膜前变速室、依次连续设置的十五个工艺室、镀膜后变速室、二号一级转换室、二号二级转换室、出口室；所述十五个工艺室在所述A功能区对应工艺室分别依次设置一号分子泵、二号铌靶、三号分子泵、二号硅靶、五号分子泵、四号硅靶、七号分子泵、八号分子泵、九号分子泵、十号分子泵、十一号分子泵、十二号分子泵、十三号分子泵、三号氧化铟锡靶、四号氧化铟锡靶；所述十五个工艺室在所述B功能区对应工艺室分别依次设置一号铌靶、二号分子泵、一号硅靶、四号分子泵、三号硅靶、六号分子泵、一号钼靶材、一号铝靶材、二号铝靶材、三号铝靶材、二号钼靶材、一号氧化铟锡靶、二号氧化铟锡靶、十四号分子泵、十五号分子泵；所述承载台车上设有镀膜装片室；所述十五个工艺室的每一支所述靶均设有开启和关闭两种模式，所述承载台车从进口室进入所述多功能立式连续磁控溅射镀膜系统，镀膜完成后从出口室出片；所述镀膜装片室无尘等级至少为百级。