[发明专利]具备超低顺向电压的晶粒尺寸封装二极管元件及制造方法在审
申请号: | 201610560122.5 | 申请日: | 2016-07-15 |
公开(公告)号: | CN107622956A | 公开(公告)日: | 2018-01-23 |
发明(设计)人: | 黄文彬;吴文湖;林慧敏;赖锡标;陈建武 | 申请(专利权)人: | 美丽微半导体股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56;H01L23/31 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种具有具备超低顺向电压的晶粒尺寸封装二极管元件及其制造方法,该二极管元件是直接利用第二电极以外的全部区域作为第一电极,及/或采用穿孔贯穿第一电极的正背面并导通后,经切割后即可形成一体积更小的晶粒尺寸封装二极管元件成品;由于本发明中的第一电极无须通过磊晶层或扩散层作导通,因此能避开内阻而降低顺向电压,并具备简化制程、提升质量、降低成本、以及让二极管元件更轻薄短小等诸多优点。 | ||
搜索关键词: | 具备 超低顺 电压 晶粒 尺寸 封装 二极管 元件 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种具备超低顺向电压的晶粒尺寸封装二极管元件的制造方法,其特征在于:直接利用第二电极以外的全部区域作为一二极管元件的第一电极,使第一电极无磊晶层或扩散层覆盖,该方法包含下列步骤:第一步骤:将一基板的正面划分为多个二极管元件区,每一二极管元件区的外围预留有切割道以及内围配置一第二电极区,且每一二极管元件区在其第二电极区以外的位置全部作为第一电极区;第二步骤:在上述每一二极管元件区的第二电极区配置位置上制作一磊晶平台,使该基板除了磊晶平台以外的全部区域皆为第一电极区的电性范围;第三步骤:在前述磊晶平台上根据二极管元件的电气特性制作一电气层以完成第二电极区的电性制作;第四步骤:对位于第一电极区的基板表面以及第二电极区的电气层表面分别披覆一层金属层后,由每一二极管元件区周围所预留的切割道位置予以切割。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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