[发明专利]某些三唑并吡啶化合物和三唑并吡嗪化合物、其组合物和其使用方法有效

专利信息
申请号: 201610437304.3 申请日: 2010-12-30
公开(公告)号: CN106117248B 公开(公告)日: 2019-01-22
发明(设计)人: 苏慰国;贾红;戴广袖 申请(专利权)人: 和记黄埔医药(上海)有限公司
主分类号: C07D519/00 分类号: C07D519/00;C07D487/04;A61K31/4985;A61K31/5025;A61K31/519;A61P35/00;A61P35/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张宇腾;李炳爱
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及某些三唑并吡啶化合物和三唑并吡嗪化合物、其组合物和其使用方法,所述化合物可用于抑制c‑Met的活性和治疗对抑制c‑Met敏感的癌症。
搜索关键词: 某些 吡啶 化合物 组合 使用方法
【主权项】:
1.至少一种式1的化合物:和/或其至少一种可药用盐,其中:X是C(R6),Y选自‑O‑、‑S‑和‑N(R7)‑,或Y不存在,且R1是选自下列的环系统:其中每个环系统任选被一个或更多个选自下列的基团取代:卤素、低级烷基和被低级烷氧基取代的低级烷基;R2是氢且R3选自氢和C1‑C6烷基;R4选自:(i)任选被一个或更多个选自下列的基团取代的苯基:低级烷氧基、被羟基取代的低级烷氧基和被低级烷氧基取代的低级烷氧基;(ii)吡咯烷‑1‑基、哌啶‑1‑基、四氢‑2H‑吡喃‑4‑基、吗啉‑4‑基或6,7‑二氢噻吩并[3,2‑c]吡啶‑5(4H)‑基,其各自任选被一个或更多个选自下列的基团取代:卤素、CF3、‑CF2H、羟基、低级烷基、被羟基取代的低级烷基和被低级烷氧基取代的低级烷基;和(iii)1H‑吡唑‑1‑基、1H‑吡唑‑3‑基、1H‑吡唑‑4‑基、1H‑咪唑‑1‑基、1H‑咪唑‑4‑基、噁唑‑2‑基、噻唑‑2‑基、异噁唑‑3‑基、异噁唑‑5‑基、1H‑吡咯‑2‑基、1H‑吡咯‑3‑基、噻吩‑2‑基、噻吩‑3‑基、吡啶‑2‑基、吡啶‑3‑基或吡啶‑4‑基,其各自任选被一个或更多个选自下列的基团取代:任选被一个或更多个选自羟基、低级烷氧基、氰基和卤素的基团取代的低级烷基;R5是氢;R6选自氢、‑OH、‑NH2、‑NHC(O)R11、卤素和低级烷基;R7选自氢和低级烷基;R11是低级烷基;其中低级烷基是含有1‑4个碳原子的直链或支链烃;低级烷氧基是直链或支链烷氧基,其中烷基部分含有1‑4个碳原子。
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