[发明专利]一种用于金属镀膜的矩形磁控溅射靶有效
申请号: | 201610360061.8 | 申请日: | 2016-05-27 |
公开(公告)号: | CN106399958B | 公开(公告)日: | 2019-01-22 |
发明(设计)人: | 佘鹏程;彭立波;陈长平;张赛;龚俊 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 周长清;戴玲 |
地址: | 410111 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于金属镀膜的矩形磁控溅射靶,包括阳极座、水冷靶座、磁铁组件、靶材和靶背板,阳极座设有矩形安装槽,水冷靶座安装于矩形安装槽内,磁铁组件安装于水冷靶座内并通过靶背板密封,靶材装设于靶背板上,磁铁组件包括中心磁铁、两个端部磁铁和多个侧部磁铁,两个端部磁铁和多个侧部磁铁构成矩形磁铁框,中心磁铁沿矩形磁铁框长度方向固定于矩形磁铁框内部,每个侧部磁铁固设一固定块,水冷靶座内设有多个安装凸块,所述固定块与安装凸块一一对应,固定块可移动的与安装凸块连接。本发明可改变靶材表面磁场强度分布,提高矩形磁控溅射靶的沉膜均匀性,增大溅射靶有效沉膜区域,提高靶材的利用率。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 金属 镀膜 矩形 磁控溅射 | ||
【主权项】:
1.一种用于金属镀膜的矩形磁控溅射靶,其特征在于:包括阳极座(1)、水冷靶座(3)、磁铁组件(4)、靶材(6)和靶背板(5),所述阳极座(1)设有矩形安装槽(11),所述水冷靶座(3)安装于矩形安装槽(11)内,所述磁铁组件(4)安装于水冷靶座(3)内并通过靶背板(5)密封,所述靶材(6)装设于靶背板(5)上,所述磁铁组件(4)包括中心磁铁(43)、两个端部磁铁(42)和多个侧部磁铁(41),所述两个端部磁铁(42)和多个侧部磁铁(41)构成矩形磁铁框,所述中心磁铁(43)沿矩形磁铁框长度方向固定于矩形磁铁框内部,每个侧部磁铁(41)固设一固定块(44),所述水冷靶座(3)内设有多个安装凸块(31),所述固定块(44)与安装凸块(31)一一对应,所述多个所述安装凸块(31)呈两排布置,所述固定块(44)可移动的与安装凸块(31)连接,所述矩形安装槽(11)的底部设有可供冷却进水管、冷却出水管穿过的进口和出口,所述水冷靶座(3)两端分别设有水冷进口和水冷出口,所述冷却进水管与所述水冷进口连通,所述冷却出水管与水冷出口连通,所述水冷进口和水冷出口位于两排安装凸块(31)之间。
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