[发明专利]一种承载基台、曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 201610214007.2 | 申请日： | 2016-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN105629681B | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | 翟玉漫 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种承载基台、曝光装置及曝光方法，属于显示技术领域，其可解决现有的带凸起的承载基台影响基板曝光均匀性的问题。本发明的承载基台包括表面具有多个凸起的第一基台、具有多个通孔的第二基台以及温控单元，所述通孔容所述凸起穿过，温控单元独立控制第一基台和/或第二基台的温度，以使基板靠近承载基台的一侧的表面有凸起支撑处与其余位置的温度相同，这样规避由于基板表面温差对工艺造成的影响，使得基板曝光均匀。本发明的承载基台适用于各种曝光装置，尤其适用于超薄显示基板。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 承载 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种承载基台，用于承载基板，其特征在于，所述承载基台包括：第一基台，所述第一基台表面具有多个凸起，所述凸起用于与基板接触并支撑基板；第二基台，设于所述第一基台具有多个凸起的一面上，所述第二基台具有多个与所述凸起相匹配、并容所述凸起穿过的通孔；温控单元，用于调节控制所述第一基台和/或所述第二基台的温度，以使基板表面温度相同；所述温控单元包括与所述第一基台连接的冷却水循环部件，用于降低所述第一基台的温度；所述温控单元包括与所述第二基台连接的升温部件，用于升高所述第二基台的温度；所述温控单元调节控制所述第一基台的温度至T1，所述温控单元调节控制所述第二基台的温度至T2，T2大于T1，且T2与T1的差值在0.1‑0.3℃范围内。
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