[发明专利]抛光液、抛光机以及抛光方法在审
| 申请号： | 201610186551.0 | 申请日： | 2016-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN105773399A | 公开（公告）日： | 2016-07-20 |
| 发明（设计）人： | 王同庆;王婕;路新春 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B37/34;B24B57/02;H01L21/304;C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 李志东 |
| 地址： | 100084 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提出了抛光液、抛光机以及抛光方法。该方法包括：将抛光液添加在待抛光的晶圆表面上，同时采用紫外灯照射所述抛光液，以便完成所述化学机械抛光，其中，所述抛光液包括：抛光颗粒；氧化剂；光催化剂；以及去离子水。利用紫外灯对抛光液进行照射，能够使光催化剂催化附着在光催化剂表面的物质发生氧化反应，产生更多强氧化剂，进而可以提高该抛光液对待抛光材料的氧化效果，从而可以增强化学机械抛光过程对待抛光材料表面的材料去除程度，有利于快速获得光滑平坦的表面。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 抛光机 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光的方法，其特征在于，包括：将抛光液添加在待抛光的晶圆表面上，同时采用紫外灯照射所述抛光液，以便完成所述化学机械抛光，其中，所述抛光液包括：抛光颗粒；氧化剂；光催化剂；以及去离子水。
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