[发明专利]光刻装置、光刻方法、程序、光刻系统和物品制造方法有效
| 申请号： | 201610086176.2 | 申请日： | 2016-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN105892231B | 公开（公告）日： | 2019-12-10 |
| 发明（设计）人： | 宫岛义一;中野一志 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 宿小猛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及光刻装置、光刻方法、程序、光刻系统和物品制造方法。该光刻装置具有被配置为分别在属于一个批次的多个基板上执行图案化的多个处理单元，以及控制器，该控制器被配置为基于指定该多个基板中的一个基板的特定信息来执行多个处理单元中的处理该多个基板中的该一个基板的一个处理单元的确定并控制该多个处理单元使得基于与批次对应的配方信息并行地使用多个处理单元分别在多个基板上执行图案化。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 方法 程序 系统 物品 制造 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，其特征在于，用于对施加到属于一批次的多个基板上的树脂进行图案化，所述光刻装置包括：/n第一处理单元，被配置为执行图案化；/n不同于第一处理单元的第二处理单元；/n传输单元，被配置为基于指定所述批次的所述多个基板中的每个基板的特定信息，将所述多个基板中的第一基板传输到第一处理单元，并将所述多个基板中的第二基板传输到第二处理单元，第二基板不同于第一基板；以及/n控制器，被配置为控制第一处理单元、第二处理单元以及传输单元，以并行地分别处理第一基板和第二基板。/n
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