[发明专利]一种用于微纳米粉体的磁控溅射连续镀膜设备在审
申请号: | 201610070634.3 | 申请日: | 2016-02-01 |
公开(公告)号: | CN107022743A | 公开(公告)日: | 2017-08-08 |
发明(设计)人: | 唐晓峰;逯琪;董建廷;李大铭;张文彬;雷芝红 | 申请(专利权)人: | 上海朗亿功能材料有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/56 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201699 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于微纳米粉体的磁控溅射连续镀膜设备,包括真空腔体(1)、输送带(2)、旋转振动装置(3)、连续下料装置(10)、磁控溅射装置(11)、收料仓(12)和储料仓(13),其中旋转振动装置包括旋转振动杆(4)、传动杆(5)、联轴器(6)、密封件(7)、法兰(8)和转动电机(9)。该设备可将转动电机(9)放置于真空腔体(1)外部,避免磁场、电场、温度对电机的影响,增加设备的工艺稳定性及使用寿命,同时利用转动电机(9)和旋转振动杆(4)带动输送带(2)振动,实现输送带上表面粉体抖动,保证粉体镀膜均一性。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 纳米 磁控溅射 连续 镀膜 设备 | ||
【主权项】:
一种用于微纳米粉体的磁控溅射连续镀膜设备,包括真空腔体(1)、输送带(2)、旋转振动装置(3)、连续下料装置(10)、磁控溅射装置(11)、收料仓(12)和储料仓(13),其中旋转振动装置(3)包括旋转振动杆(4)、传动杆(5)、联轴器(6)、密封件(7)、法兰(8)和转动电机(9),其特征在于所述转动电机(9)置于真空腔体(1)外部。
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