[发明专利]薄型玻璃基板的制作方法有效
申请号: | 201610065013.6 | 申请日: | 2016-01-29 |
公开(公告)号: | CN105776879B | 公开(公告)日: | 2019-03-12 |
发明(设计)人: | 郑自可 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00;B24B7/24 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供一种薄型玻璃基板的制作方法,包括如下步骤:步骤1、提供玻璃基板(1),对所述玻璃基板(1)进行抛光制程;步骤2、对所述玻璃基板(1)进行薄化制程;所述薄化制程中通过向所述玻璃基板(1)的两侧表面喷淋蚀刻液,对所述玻璃基板(1)进行蚀刻;该方法通过在对玻璃基板进行薄化制程前先对玻璃基板进行抛光制程,减少玻璃基板表面的凹凸点、刮伤等不良,然后在对玻璃基板的薄化制程中采用向玻璃基板的两侧表面喷淋蚀刻液的方法,对玻璃基板进行蚀刻;在实现玻璃基板薄化的同时,有效避免了凹凸点、刮伤、碎亮点等不良的产生,提升了制程的良率。 | ||
搜索关键词: | 玻璃 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种薄型玻璃基板的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、提供玻璃基板(1),对所述玻璃基板(1)进行抛光制程;步骤2、对所述玻璃基板(1)进行薄化制程;所述薄化制程中通过向所述玻璃基板(1)的两侧表面喷淋蚀刻液,对所述玻璃基板(1)进行蚀刻;所述步骤2中的薄化制程包括:步骤21、提供蚀刻设备(20),所述蚀刻设备(20)包括腔体(21)、及设于所述腔体(21)内壁上的数个喷嘴(22);步骤22、将所述玻璃基板(1)竖直置于所述腔体(21)中,并控制所述数个喷嘴(22)向所述玻璃基板(1)的两侧表面喷淋蚀刻液,对所述玻璃基板(1)进行蚀刻;所述腔体(21)内壁上还设有清洁工具(23);所述步骤22中,控制所述腔体(21)左右移动,使得安装于所述腔体(21)内壁上的清洁工具(23)与玻璃基板(1)相接触,之后控制所述腔体(21)前后移动,使得清洁工具(23)沿玻璃基板(1)的表面移动,从而对玻璃基板(1)表面形成的玻璃砂进行清理;所述步骤1中的抛光制程包括:步骤11、提供抛光设备(10),所述抛光设备(10)包括重力平台(11)、及位于所述重力平台(11)下方的研磨平台(12);所述重力平台(11)表面设有真空吸盘(115);所述研磨平台(12)表面设有抛光粉(13);步骤12、所述重力平台(11)通过所述真空吸盘(115)吸附所述玻璃基板(1),并将其放置于所述研磨平台(12)的抛光粉(13)上,之后通过所述重力平台(11)的重力作用将其压合于重力平台(11)与研磨平台(12)之间;步骤13、控制所述研磨平台(12)使其与所述玻璃基板(1)之间产生相对运动,从而通过所述抛光粉(13)与玻璃基板(1)之间的摩擦实现对所述玻璃基板(1)表面的抛光。
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