[发明专利]一种触控面板及其制作方法、显示装置有效
| 申请号： | 201610016241.4 | 申请日： | 2016-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN105677123B | 公开（公告）日： | 2018-09-11 |
| 发明（设计）人： | 万云海;王文龙;马涛;操彬彬;杨成绍 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/044 | 分类号： | G06F3/044;G06F3/041 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种触控面板及其制作方法、显示装置，用以减少掩膜板的使用，降低生产成本。触控面板的制作方法包括：在衬底基板上通过构图工艺制作第一电极和第二电极，第一电极和第二电极在交叉位置处断开；沉积一有机膜层，通过一掩膜板形成有机膜层完全保留区、有机膜层部分保留区和有机膜层去除区，有机膜层去除区对应桥接层与第一电极或第二电极的接触区，有机膜层部分保留区对应桥接层区域，有机膜层完全保留区和有机膜层部分保留区对应的有机膜层形成第一有机膜层；沉积一导电层，在导电层上涂覆光刻胶，通过掩膜板形成光刻胶完全保留区、光刻胶部分保留区和光刻胶去除区；对完成上述步骤的衬底基板进行刻蚀以及去除光刻胶，形成桥接层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 面板 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种触控面板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：在衬底基板上通过构图工艺制作第一电极和第二电极，所述第一电极和所述第二电极在交叉位置处断开；沉积一层有机膜层，通过一掩膜板形成有机膜层完全保留区、有机膜层部分保留区和有机膜层去除区，所述有机膜层去除区对应后续制作的桥接层与第一电极或第二电极的接触区，有机膜层部分保留区对应后续需要形成桥接层的区域，所述有机膜层完全保留区和所述有机膜层部分保留区对应的有机膜层形成第一有机膜层；沉积一导电层，在所述导电层上涂覆光刻胶，通过所述掩膜板形成光刻胶完全保留区、光刻胶部分保留区和光刻胶去除区，光刻胶完全保留区对应导电层与第一电极或第二电极接触的区域，光刻胶部分保留区对应需要形成桥接层的区域；对完成上述步骤的衬底基板进行刻蚀以及去除光刻胶，形成桥接层。
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