[发明专利]薄膜光罩、贴合辅具、贴合与曝光辅助装置在审

专利信息
申请号: 201610003321.6 申请日: 2016-01-04
公开(公告)号: CN106597805A 公开(公告)日: 2017-04-26
发明(设计)人: 许铭案;林文福 申请(专利权)人: 许铭案;林文福
主分类号: G03F1/62 分类号: G03F1/62;G03F1/64
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司11228 代理人: 张秋越
地址: 中国台湾苗栗*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开了一种薄膜光罩、贴合辅具、贴合与曝光辅助装置及将一薄膜光罩贴合于一曲面基板的方法,运用贴合辅具将薄膜光罩压合至具有一光阻层的曲面基板上,使薄膜光罩曲面化,再将贴合辅具、薄膜光罩、曲面基板的暂时结构送至曝光机,即可于曲面基板上制作出符合曲面要求的高精度彩色光阻图案。
搜索关键词: 薄膜 贴合 曝光 辅助 装置
【主权项】:
一种薄膜光罩,用以贴合于一曲面基板,使该曲面基板可制作出一光阻层,其特征在于,该薄膜光罩包含:一薄膜基材,由一挠性材料构成;及一薄膜光罩层,形成于该薄膜基材上,该薄膜光罩层构成一图案,该图案可视,该薄膜光罩层贴合于该曲面基板的该光阻层处;其中,该薄膜基材的厚度介于1‑100微米之间,该薄膜光罩层介于10‑3000纳米之间。
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