[发明专利]薄膜光罩、贴合辅具、贴合与曝光辅助装置在审
申请号: | 201610003321.6 | 申请日: | 2016-01-04 |
公开(公告)号: | CN106597805A | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | 许铭案;林文福 | 申请(专利权)人: | 许铭案;林文福 |
主分类号: | G03F1/62 | 分类号: | G03F1/62;G03F1/64 |
代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司11228 | 代理人: | 张秋越 |
地址: | 中国台湾苗栗*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种薄膜光罩、贴合辅具、贴合与曝光辅助装置及将一薄膜光罩贴合于一曲面基板的方法,运用贴合辅具将薄膜光罩压合至具有一光阻层的曲面基板上,使薄膜光罩曲面化,再将贴合辅具、薄膜光罩、曲面基板的暂时结构送至曝光机,即可于曲面基板上制作出符合曲面要求的高精度彩色光阻图案。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 贴合 曝光 辅助 装置 | ||
【主权项】:
一种薄膜光罩,用以贴合于一曲面基板,使该曲面基板可制作出一光阻层,其特征在于,该薄膜光罩包含:一薄膜基材,由一挠性材料构成;及一薄膜光罩层,形成于该薄膜基材上,该薄膜光罩层构成一图案,该图案可视,该薄膜光罩层贴合于该曲面基板的该光阻层处;其中,该薄膜基材的厚度介于1‑100微米之间,该薄膜光罩层介于10‑3000纳米之间。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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