[发明专利]金属氧化膜的成膜方法有效
申请号: | 201580080986.0 | 申请日: | 2015-06-18 |
公开(公告)号: | CN107683346B | 公开(公告)日: | 2020-06-09 |
发明(设计)人: | 平松孝浩;织田容征;川原村敏幸;藤田静雄;内田贵之 | 申请(专利权)人: | 东芝三菱电机产业系统株式会社;国立大学法人京都大学;高知县公立大学法人 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/40;C23C16/44;H01L21/31;H01L21/316 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 周欣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的目的在于提供一种提高生产效率且得到高品质的金属氧化膜的金属氧化膜的成膜方法。并且,本发明的成膜方法实施以下的处理。在溶液容器(15)内,使含有金属元素即铝的原料溶液(14)雾化而得到原料溶液雾(M1)。在独立于溶液容器(15)的溶液容器(25)内,使含有氧化铝形成用的反应助剂的反应辅助溶液(24)雾化而得到助剂雾(M2)。并且,经由路径(L1)和(L2)向设置于反应容器(11)内的喷嘴(12)供给原料溶液雾(M1)和助剂雾(M2)。然后,在喷嘴(12)内使原料溶液雾(M1)和助剂雾(M2)混合而得到混合雾(M3),向处于加热状态的P型硅基板(4)的背面上供给混合雾(M3)。 | ||
搜索关键词: | 金属 氧化 方法 | ||
【主权项】:
一种金属氧化膜的成膜方法,其特征在于,具备以下步骤:(a)在第1容器(15)内,使含有金属元素的原料溶液(14)雾化而得到原料溶液雾(M1)的步骤;(b)在独立于所述第1容器的第2容器(25)内,使含有所述金属元素用的反应助剂的反应辅助溶液(24)雾化而得到助剂雾(M2)的步骤;以及,(c)经由相互独立的第1和第2路径(L1,L2)将得到的所述原料溶液雾和所述助剂雾供给到反应容器内,并将载置于所述反应容器(11)内的基板(4)加热,在所述基板的一个主面上使含有所述金属元素的金属氧化膜成膜的步骤。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的