[发明专利]光吸收设备有效

专利信息
申请号: 201580060584.4 申请日: 2015-11-13
公开(公告)号: CN107210308B 公开(公告)日: 2018-06-29
发明(设计)人: 郑斯璘;刘汉鼎;陈书履 申请(专利权)人: 光澄科技股份有限公司
主分类号: H01L27/144 分类号: H01L27/144;H01L31/18
代理公司: 北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙) 11400 代理人: 邬玥;葛强
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种光吸收设备包括衬底、在所述衬底上方在第一所选区域上的光吸收层、在所述光吸收层上方的硅层、围绕所述光吸收层的侧壁的至少部分的间隔物、围绕所述间隔物的至少部分的隔离层,其中所述光吸收设备能实现高带宽和低暗电流。
搜索关键词: 光吸收设备 光吸收层 间隔物 衬底 所选区域 暗电流 高带宽 隔离层 侧壁 硅层
【主权项】:
1.一种形成光吸收设备的方法,所述方法包括:掺杂衬底的表面以在所述衬底中形成掺杂层;以及在所述掺杂层的顶部形成光敏结构,所述光敏结构包括(1)在所述光敏结构的底部处或附近的反向掺杂层;和(2)在所述反向掺杂层的顶部的掺杂剂控制层,其中所述掺杂剂控制层具有阻止掺杂剂从所述反向掺杂层扩散到所述光敏结构中的本征层的材料,并且其中所述衬底是基于硅的,并且其中所述反向掺杂层和所述本征层都是基于锗的。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于光澄科技股份有限公司,未经光澄科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201580060584.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top