[发明专利]用于沉积纳米管的设备有效
| 申请号： | 201580025233.X | 申请日： | 2015-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN106458592B | 公开（公告）日： | 2019-10-25 |
| 发明（设计）人： | A.朱弗雷;D.E.里平顿;K.B.K.特奥;N.L.鲁普辛赫 | 申请（专利权）人： | 艾克斯特朗欧洲公司 |
| 主分类号： | C01B32/16 | 分类号： | C01B32/16;C01B32/205;C23C16/26;C23C16/455;C23C16/458 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 侯宇 |
| 地址： | 德国黑*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于在基板(6)上沉积尤其含碳的结构、例如纳米管或石墨形式的层的设备，所述基板由被安置在处理室壳体(19)内的基板支架(1)支承，其中，通过安置在处理室壳体(19)内的进气机构(24、25)的排气口(39)能够朝着至少一个基板(6)的方向供给处理气体。为了有利应用的改进而建议，所述处理室壳体(19)具有两个相对置的具备固持槽(34、35、36、37、38)的壁件(48、48’)，并且至少一个板状构件(24、25、26、30、31)布置在处理室壳体(19)内，所述板状构件的两个相互背离指向的边缘段分别插在两个壁件(48、48’)之一的固持槽(34至38)内。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 沉积 纳米 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于在基板(6)上沉积含碳结构的设备，所述基板(6)由被安置在处理室壳体(19)内的、沿平面延伸的基板支架(1)支承，其中，所述处理室壳体(19)具有参照所述平面呈翻转对称的结构，并且所述基板支架(1)是在对称平面中延伸的面状体，所述面状体的两个宽侧分别能够支承基板，并且所述基板支架(1)的两个宽侧面(2)中的每一个均与进气机构(24、25)的具有第一排气口(39)的进气板(24)相对置，其中，通过所述第一排气口(39)能够朝着基板(6)的方向供给处理气体，其中，所述处理室壳体(19)具有相互对置的壁件(48、48’)，所述壁件各自具备空腔(28)，其中，每个空腔(28)都借助供气口(40)与进气机构(24、25)的布置在进气板(24)背后的气体体积空间相连，并且所述壁件中的每一个均由两个具备空腔(28)的局部壁段构成。
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