[发明专利]化学机械抛光方法有效
| 申请号： | 201510329335.2 | 申请日： | 2015-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN105215837B | 公开（公告）日： | 2018-10-19 |
| 发明（设计）人： | B·钱;M·W·格鲁特;M·F·索南夏因 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司;陶氏环球技术有限责任公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B37/24;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;江磊 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种化学机械抛光衬底的方法，其包含：提供具有压板的抛光机；提供衬底，其中所述衬底具有暴露的氧化硅表面；提供化学机械抛光垫，其包含：聚氨基甲酸酯抛光层；其中所述聚氨基甲酸酯抛光层组合物展现≥0.5mg(KOH)/g的酸值；提供研磨剂浆料，其中所述研磨剂浆料包含水和二氧化铈研磨剂；在所述化学机械抛光垫与所述衬底之间的界面处形成动态接触；以及将所述研磨剂浆料分配到所述化学机械抛光垫的所述聚氨基甲酸酯抛光层的所述抛光表面上位于或接近所述化学机械抛光垫与所述衬底之间的界面；且抛光所述衬底。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光衬底的方法，其包含：提供具有压板的抛光机；提供衬底，其中所述衬底具有暴露的氧化硅表面；提供化学机械抛光垫，其包含：聚氨基甲酸酯抛光层；其中所述聚氨基甲酸酯抛光层经选择具有组合物、底表面和抛光表面；其中所述聚氨基甲酸酯抛光层组合物展现≥0.5mg(KOH)/g的酸值；其中所述抛光表面被调适用于抛光衬底；所选择的所述聚氨基甲酸酯抛光层是各成分的反应产物，其包含：(a)多官能异氰酸酯；(b)固化剂系统，其包含：(i)含有羧酸的多官能固化剂，其每分子平均具有至少两个活性氢和至少一个羧酸官能团，并且具有下式：![]()
以及，(c)任选的多个微元件；提供研磨剂浆料，其中所述研磨剂浆料包含水和二氧化铈研磨剂；将所述衬底和所述化学机械抛光垫安装在所述抛光机中；在所述化学机械抛光垫与所述衬底之间的界面处形成动态接触；以及将所述研磨剂浆料分配到所述化学机械抛光垫的所述聚氨基甲酸酯抛光层的所述抛光表面上位于或接近所述化学机械抛光垫与所述衬底之间的界面；且其中所述暴露的氧化硅表面中的至少一些经抛光离开所述衬底的所述表面。
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