[发明专利]一种溶液中微弧等离子体去除铸铁表面石墨的方法在审
申请号: | 201510163534.0 | 申请日: | 2015-04-09 |
公开(公告)号: | CN104831301A | 公开(公告)日: | 2015-08-12 |
发明(设计)人: | 蒋永锋;包晔峰 | 申请(专利权)人: | 河海大学常州校区 |
主分类号: | C23G5/00 | 分类号: | C23G5/00 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林;刘艳艳 |
地址: | 213022 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种溶液中微弧等离子体去除铸铁表面石墨的方法,铸铁放入微弧等离子体处理溶液中,待处理铸铁作为阴极,石墨作为阳极,加电压至220-300V,处理3-10分钟,即可去除铸铁表面的石墨;微弧等离子体处理溶液组分及各组分的浓度为:以去离子水为溶剂,碳酸钠的浓度为30-40g/L,氢氧化钾的浓度为15-25g/L,氯化钾的浓度为5-15g/L。本发明提供的溶液中微弧等离子体去除铸铁表面石墨的方法,利用溶液中微弧等离子体产生的热冲击作用,通过剥离和烧蚀作用去除石墨;铸铁件无需加热,无后处理,处理后无变形,可直接进行铸铁件的钎焊工序,简化了处理工序,很好地降低了成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 溶液 中微弧 等离子体 去除 铸铁 表面 石墨 方法 | ||
【主权项】:
一种微弧等离子体处理溶液,其特征在于:所述微弧等离子体处理溶液组分及各组分的浓度为:以去离子水为溶剂,碳酸钠的浓度为30‑40 g/L,氢氧化钾的浓度为15‑25 g/L,氯化钾的浓度为5‑15 g/L。
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