[发明专利]一种去离子水供给装置在审

专利信息
申请号: 201510130620.1 申请日: 2015-03-24
公开(公告)号: CN104694891A 公开(公告)日: 2015-06-10
发明(设计)人: 王珏;周立刚;张敏;慕国鹏;高斌;康英男;谢晓龙;张文辉;刘哲;赵东升 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种去离子水供给装置,该装置包括去离子水容器,去离子水容器内设置有容纳去离子水的容纳腔,以及检测去离子水液面高度的第一传感器;还包括去离子水储存容器,去离子水储存容器通过带有电磁开关阀的出水管道与容纳腔连通;控制装置,控制装置在接收的第一传感器检测的去离子水液面低于设定值时,控制电磁开关阀打开,去离子水储存容器内的去离子水流入到去离子水容器。在上述技术方案中,通过采用去离子水储存容器将去离子存放起来,在添加去离子水时,去离子水容器与外界隔绝,因此,去离子水容器内的真空环境不会被破坏掉,从而保证了成膜的效率,并且极大的简化了向去离子水容器内添加去离子水的步骤。
搜索关键词: 一种 离子水 供给 装置
【主权项】:
一种去离子水供给装置,其特征在于,包括去离子水容器,所述去离子水容器内设置有容纳去离子水的容纳腔,以及检测所述去离子水液面高度的第一传感器;还包括去离子水储存容器,所述去离子水储存容器通过带有电磁开关阀的出水管道与所述容纳腔连通;控制装置,所述控制装置在接收的所述第一传感器检测的去离子水液面低于设定值时,控制所述电磁开关阀打开,所述去离子水储存容器内的去离子水流入到所述去离子水容器。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司;,未经京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510130620.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
  • 一种高钪含量铝钪合金溅射靶材及其制备方法-201810418401.7
  • 何午琳 - 何午琳
  • 2018-05-04 - 2019-11-12 - C23C14/34
  • 本发明公开了一种高钪含量铝钪合金溅射靶材及其制备方法,属于高性能铝钪合金靶材技术领域。该高钪含量铝钪合金靶材中,钪元素的质量百分含量为40%‑90%,其余为铝元素。其制备方法包括:步骤一备料、步骤二真空熔炼、步骤三筛选、步骤四烧结制坯、步骤五铣磨出料完成制备。本发明采用真空熔炼喷雾制粉,再用粉末烧结法,通过调整原料的粒度、烧结工艺参数达到保证合金成分均匀性、提高合金致密度的目的。铝钪合金靶材的厚度:2‑35mm,致密度99%,钪元素的质量百分含量为40%‑90%,其余为铝元素。实现制备方法操作简单、昂贵的金属钪利用率高、且能将熔炼工艺难克服的困难完美的解决,有利于产业化应用。克服了现有技术的不足。
  • 多工位水冷靶及其制造方法-201910018177.7
  • 不公告发明人 - 伟业智芯(北京)科技有限公司
  • 2019-01-09 - 2019-11-12 - C23C14/34
  • 本发明公开了一种多工位水冷靶及其制造方法,包括制造靶体、集水管、进水管、堵水件、回水管、回水弯管、靶套等。将各部件组装焊接形成多工位水冷靶。由于采用螺旋槽设计的直接水冷通道,并将靶体套入靶套内,安装在靶套表面的靶材由于离子束轰击产生的热量直接由冷却水带走,水准效果好。同时这种设计的水冷靶结构简单,可实现四面、五面、六面、八面等形式,可安装多种不同靶材。
  • 航空用螺栓表面耐磨防锁死Ni-AgPd复合涂层的制备方法-201810097027.5
  • 呼丹;高广睿;王宝云;屈静;李超众;颜学柏;李争显 - 西安赛福斯材料防护有限责任公司
  • 2018-01-31 - 2019-11-12 - C23C14/34
  • 本发明公开了一种航空用螺栓表面耐磨防锁死Ni‑AgPd复合涂层的制备方法,该方法为:一、对螺栓进行抛光和清洗;二、对螺栓进行喷砂处理;三、将螺栓放入真空腔室内,再将Ni靶和AgPd靶分别安装在电弧离子镀的阴极靶位,启动阴极Ni靶电弧轰击螺栓,溅射清洗除去螺纹表面的钝化层;四、启动阴极Ni靶沉积Ni过渡层;五、开启AgPd靶电弧轰击螺栓沉积AgPd涂层,最后在螺栓的螺纹表面得到Ni‑AgPd复合涂层。本发明利用电弧离子镀技术在航空用不锈钢/钛合金螺栓表面制备出均匀致密并兼具良好减摩作用的Ni‑AgPd复合涂层,通过调节真空度、电弧电流大小以及镀膜时间保证AgPd涂层中Pd的含量稳定在18%~23%从而使Ni‑AgPd涂层的防锁死性能达到最优。
  • 铜锑硫薄膜材料的制备方法-201711143977.9
  • 刘芳洋;康亮亮;陈珠;蒋良兴;狄云翔;陈建宇 - 中南大学
  • 2017-11-17 - 2019-11-12 - C23C14/34
  • 本发明公开了一种铜锑硫薄膜材料的制备方法,该铜锑硫薄膜材料的制备方法包括以下步骤:基材表面清洁处理;在清洁处理后的基材表面通过射频或直流反应共溅射沉积Cu‑Sb‑S预制层;将表面沉积有Cu‑Sb‑S预制层的基材放入反应性气氛下进行高温退火处理;对高温退火处理后的Cu‑Sb‑S预制层的表面进行刻蚀处理,得到铜锑硫薄膜材料。本发明提出的铜锑硫薄膜材料的制备方法具有成本低、薄膜成分易控可调、重现性好和适合薄膜大面积生长等优点,所制备的薄膜具有良好的成分可控性和均匀性,以及优越的结晶质量及性质。
  • -201920364025.8
  • 钱铁威 - 北京中百源国际科技创新研究有限公司
  • 2019-03-21 - 2019-11-12 - C23C14/34
  • 本实用新型提出了一种靶,包括管形的靶体、管形的承载体及安装柱,承载体套设在安装柱上,靶体套设在承载体上,所述的承载体的内部设有冷却腔体,所述的承载体上设有冷却液进口和冷却液出口,冷却液进口和冷却液出口分别与冷却腔体连通设置,所述的靶体可绕其中心轴线进行转动,所述的靶体可沿其中心轴线方向进行移动。
  • 组合式靶件-201920364059.7
  • 钱铁威 - 北京中百源国际科技创新研究有限公司
  • 2019-03-21 - 2019-11-12 - C23C14/34
  • 本实用新型提出了一种组合式靶件,包括靶柱和安装架,所述的安装架包括上下间隔设置的上安装架和下安装架,上安装架包括相互间隔设置的齿轮三和齿轮四,齿轮三和齿轮四上连接有环形的铰链一,下安装架包括相互间隔设置的齿轮五和齿轮六,齿轮五和齿轮六上连接有环形的铰链二,齿轮三与齿轮五联动连接,还包括驱动齿轮三转动的驱动装置三,靶柱设置在上安装架和下安装架之间,靶柱的上端与铰链一连接,靶柱的下端与铰链二连接,靶柱设有若干个,该若干个靶柱在铰链一周向方向上均匀排列;所述的靶柱包括管形的靶体、管形的承载体及安装柱,承载体套设在安装柱上,靶体套设在承载体上,所述的承载体的内部设有冷却腔体。
  • 含锂过渡金属氧化物靶-201680016509.2
  • 辛钟源 - 尤米科尔公司
  • 2016-03-17 - 2019-11-12 - C23C14/34
  • 本发明公开了一种形成具有双模态颗粒尺寸分布的LiMO2(例如LiCoO2)溅射靶(如空心圆柱靶体)的方法,其包括基于CIP的方法,所述方法涉及例如形成或获得LiMO2(例如LiCoO2)粉末;分散和研磨(例如湿磨);粘结剂引入;干燥(例如喷雾干燥),以形成颗粒;将所述颗粒CIP加工成模制形状;以及用于去粘结和烧结的加热循环,以形成致密化的烧结形状。所制造的靶体适用于被包括到溅射靶组件上(如旋转溅射靶组件,其中多个圆柱形靶体连接于背衬支撑件)。本发明包括根据基于CIP的方法以及基于感应加热器的方法形成的所得靶体,其用于通过使用被提供给靶体的并且在连接方法期间被感应加热器加热的被添加的导电包裹物或导电层将LiMO2(例如LiCoO2)的低电导率靶体连接(例如用金属焊料粘合)到共用背衬支撑件。
  • 一种钢带镀膜系统-201910826782.7
  • 刘自然;卢威;陈元;郭碧云;何振;缪朴 - 肇庆宏旺金属实业有限公司
  • 2019-09-03 - 2019-11-08 - C23C14/34
  • 本发明提供一种钢带镀膜系统,包括真空镀膜工艺室、导轨机构、以及靶材进出小车;导轨机构设置在真空镀膜工艺室的前方,并与真空镀膜工艺室呈垂直设置,靶材进出小车滑动安装于导轨机构上。靶材进出小车包括车身以及靶材安装机构;车身设有靶材固定部,靶材固定部垂直于车身设置,靶材安装机构安装于靶材固定部。靶材安装机构包括电机、连接法兰盘、以及靶材安装柱;电机安装于靶材固定部,连接法兰盘安装于电机的输出轴,靶材安装柱与连接法兰盘连接,且靶材安装柱开设有固定孔。本发明的钢带镀膜系统能够有效节省人力物力,操作安全系数高,且镀膜致密性好,提高产品良率。
  • 快速下料的溅射镀膜设备-201822181393.7
  • 傅志坚;苏良民 - 青岛华磊真空镀膜有限公司
  • 2018-12-25 - 2019-11-08 - C23C14/34
  • 本实用新型公开了一种快速下料的溅射镀膜设备,属于溅射镀膜领域,其包括半圆柱状的主壳体,在主壳体内固定连接有中心立柱,在中心立柱上转动连接有底盘,在底盘上转动连接有多根连接杆,每根连接杆上均连接有多组挂件组件,挂件组件包括固定连接于连接杆上的上压杆和下压杆,下压杆包括固定连接于连接杆上的固定部和铰接于固定部远离连接杆一端的转动部,在固定部靠近转动部一端开设有第一容纳槽,第一容纳槽内固定连接有电磁铁,在转动部靠近固定部一端开设有第二容纳槽,在第二容纳槽内固定连接有具有铁磁性的金属块,本实用新型具有在镀膜完成后可以直接使手机听孔金属板落下,方便工作人员收集的效果。
  • 提高下料速度的溅射镀膜设备-201822184311.4
  • 傅志坚;苏良民 - 青岛华磊真空镀膜有限公司
  • 2018-12-25 - 2019-11-08 - C23C14/34
  • 本实用新型公开了一种提高下料速度的溅射镀膜设备,属于溅射镀膜领域,其包括半圆柱状的主壳体和转动连接于主壳体一侧的半圆柱状的辅壳体,辅壳体能够扣合与主壳体上形成圆柱形的密封壳体,在主壳体内固定连接有中心立柱,在中心立柱上转动连接有底盘,在底盘上转动连接有多根连接杆,每根连接杆均开设有多个容纳槽,在每个容纳槽内均固定连接有电磁铁;每根连接杆上均套设有多个具有铁磁性的套环,在每个套换上均固定连接有至少一根挂件杆,每个挂件杆均转动连接有档杆,挂件杆固定连接有扭簧,扭簧另一端固定连接于档杆上,扭簧自然状态下档杆朝向主壳体顶端,本实用新型具有方便工作人员下料,提高下料效率的效果。
  • 分割溅射靶-201780088428.8
  • 三轮昌宏;佐佐木宏卫;林俊庭;吴信辉 - 三井金属矿业株式会社
  • 2017-10-27 - 2019-11-08 - C23C14/34
  • 实施方式的一个方案的分割溅射靶(1)为将多个靶材(10)接合于基材(20)而形成的分割溅射靶(1),其中,在通过将多个靶材(10)留有间隔地配置而形成的分割部(40)之中的至少一部分分割部(40)处所配置的一对靶材(10)的侧面(11)的至少一部分上分别形成有平坦面(12),就在分割部(40)处相向的平坦面(12)彼此之间的间隔而言,最远离基材(20)的部分的间隔(Lt)比最接近基材(20)的部分的间隔(Lb)大,平坦面(12)的表面粗糙度Ra为0.3μm以下。
  • 带透明导电膜基板及其制造设备和方法以及太阳能电池-201910327419.0
  • 松崎淳介;高桥明久 - 株式会社爱发科
  • 2019-04-23 - 2019-11-05 - C23C14/34
  • 本发明公开带透明导电膜基板及其制造设备和方法以及太阳能电池。该带透明导电膜基板具备对载置于托盘的状态下的基体进行热处理的第三调温装置、以及对基体的正面侧及背面侧分别形成第一透明导电膜及第二透明导电膜的第一成膜装置及第二成膜装置。在成膜室内的第一靶附近,第一工艺气体导入机构的气体导出部在基体的移动方向上配设在朝向第一靶中的位于左侧的靶喷射第一工艺气体的位置上。在成膜室内的第二靶附近,配设有第二工艺气体导入机构的气体导出部。第一靶和第二靶配置在成膜室内,从而在基体经过第一靶的前面时通过溅射法对基体的正面侧形成第一透明导电膜,在基体经过第二靶的前面时通过溅射法对基体的背面侧形成第二透明导电膜。
  • 靶材的绑定结构以及绑定方法-201910737132.5
  • 高明;张花蕊;张虎;陈浩杰 - 北京航大微纳科技有限公司
  • 2019-08-13 - 2019-11-05 - C23C14/34
  • 本发明涉及一种靶材的绑定结构以及绑定方法,包括靶坯(1)以及用于支持所述靶坯(1)的金属基体(2),所述靶坯(1)用于与所述金属基体(2)焊接的表面上结合有第一金属化层,所述第一金属化层自内而外依次为铜层、镍层,所述金属基体(2)选用与所述铜层的结合力好于与所述镍层的结合力的材质;所述金属基体(2)用于与所述靶坯(1)焊接的表面上结合有对应的第二金属化层,所述第二金属化层自内而外依次为铜层、镍层。本发明的该种靶材的绑定结构金属基体(2)与靶坯(1)之间的焊合率较高,且由于金属化层所用材质为铜、镍成本较低。
  • 一种无粘结相纯碳化钨靶材的制备方法-201710778737.X
  • 张凤戈;梁俊才;李建奎;魏铁峰;张欠男 - 北京安泰六九新材料科技有限公司;安泰科技股份有限公司
  • 2017-09-01 - 2019-11-05 - C23C14/34
  • 本发明提供一种无粘结相纯碳化钨靶材的制备方法,该方法为:首先将纯碳化钨原料粉进行筛分处理,得到粒度均匀的纯碳化钨粉末;然后均匀填充到模具中,在真空条件下进行热压烧结处理,经冷却后,脱模得到烧结坯;最后将烧结坯进行机加工得到符合尺寸和表面质量要求的所述无粘结相纯碳化钨靶材。该方法工艺简单、成形效果较好,利于工业化大规模生产;靶材无任何粘结相成分,晶粒均匀、平均晶粒尺寸5μm以下,致密度可达到99%以上,纯度在99.9%以上;该靶材改善了溅射过程中的打弧放电现象,制备的膜层表面缺陷较少,涂层更为致密,可作为制备类金刚石(DLC)涂层的掺杂相以及过渡层材料,提高涂层力学性能以及摩擦学性能。
  • 一种高温抗氧化自润滑多层涂层及其制备方法-201710776116.8
  • 韦春贝;林松盛;代明江;侯惠君;李洪;石倩;苏一凡 - 广东省新材料研究所
  • 2017-08-31 - 2019-11-05 - C23C14/34
  • 本发明公开一种高温抗氧化自润滑多层涂层及其制备方法。该涂层依次由在基体(1)上的打底层(2)和交替多层(3)组成,所述交替多层(3)是由AlCrSiN层(4)和MoAlSiN层(5)依次叠加构成。制备方法由基体清洗,离子溅射清洗,采用电弧离子镀沉积打底层和交替多层步骤组成。本发明制备的涂层具有硬度高、高温抗氧化性能好、摩擦系数低等特点,可以大幅度提高刀具、模具等在高温下的使用性能和使用寿命。本发明制备方法简单、工艺控制性好,绿色环保,成本低,易于实现工业化生产。
  • 长条型靶材的自动绑定加工设备-201920121834.6
  • 曹兴民 - 苏州罗纳尔材料科技有限公司
  • 2019-01-24 - 2019-11-05 - C23C14/34
  • 本实用新型公开了一种长条型靶材的自动绑定加工设备,其包括至少一个同步加热A料和B料的加热台,加热台上设置一将A料两端抬起的第一抬起机构,加热台上方可水平旋转地设置一翻转板,翻转板上设置有若干个用于吸附A料的耐高温吸盘,耐高温吸盘连接负压产生装置,还包括一将所述翻转板送入A料下方以吸附A料、并驱动B料移动至所述翻转板下方以将翻转后的所述A料叠放到所述B料上的驱动机构。本实用新型的长条型靶材的自动绑定加工设备,实现加工的自动化操作,克服人工操作的不足,并可提高生产效率。
  • 应用于烧结窑内的ITO靶材架设装置-201920231117.9
  • 王雪涛;李玉新;宋蕊立 - 河北惟新科技有限公司
  • 2019-02-25 - 2019-11-05 - C23C14/34
  • 本实用新型公开了一种应用于烧结窑内的ITO靶材架设装置,包括水平设置在烧结窑内支架上的支撑座,所述支撑座的上端面倾斜设置,倾斜设置的支撑座上端面上放置有用于承载ITO靶材坯体的承烧板,承烧板的上端面上匀布有若干条贯穿承烧板前后、用于流过氧气气流的沟槽;位于较低端的支撑座倾斜上端面端部设置有承托承烧板和ITO靶材坯体的挡块。本实用新型可使氧气通过水平设置的沟槽与靶材坯体接触,提高了透氧率;同时倾斜设置承烧板可将靶材坯体的重力在水平方向上实现分解,降低了坯体与承烧板之间的摩擦力,有利于靶材坯体的收缩,减少了烧结时间,提高了靶材坯体的烧结成品率以及烧结密度。
  • 钽溅射靶及其制造方法-201680023081.4
  • 永津光太郎;仙田真一郎 - 捷客斯金属株式会社
  • 2016-05-17 - 2019-11-05 - C23C14/34
  • 一种钽溅射靶,其中,在使用背散射电子衍射法对作为与靶的溅射面垂直的截面的轧制面法线方向ND进行观察时,{111}面沿ND取向的晶粒的面积率为35%以上。本发明的课题在于提供在高功率溅射的情况下,通过增强溅射物质的直进性,能够在晶片面上将溅射物质均匀地成膜的钽溅射靶。在使用这样的钽靶进行溅射的情况下,即使对于微细布线而言也能够提高膜厚的均匀性和成膜的生产能力。
  • 一种硫系多元合金靶材及其制造方法-201910526761.3
  • 何金江;石红春;万小勇;刘晓华;张晓娜;毛永军;闫缓;李勇军 - 有研新材料股份有限公司
  • 2019-06-18 - 2019-11-01 - C23C14/34
  • 本发明公开了一种硫系多元合金靶材及其制造方法,所述靶材包括的化学元素及其质量分数为:锗10‑30%,砷20‑40%,硒30‑50%,硅0‑10%,碲0‑10%;所述靶材的相对密度≥99.5%,氧含量低于150ppm。所述制造方法首先在真空条件下合成高纯度合金,再采用高速喷嘴气雾化制球形粉末,合金快速凝固成玻璃态,同时增氧很小,最后采用真空热压或者放电等离子体烧结实现高致密烧结成形,烧结过程中不存在污染问题。采用本发明制备的硫系多元合金靶材的综合性能好,组织性能优异,密度高,氧含量低。
  • 一种钼钠合金旋转靶的制备方法-201910585780.3
  • 张灵杰;彭光辉;杨雷雷;岳慎伟 - 洛阳科威钨钼有限公司
  • 2019-07-01 - 2019-11-01 - C23C14/34
  • 本发明公开了一种钼钠合金旋转靶的制备方法,包括制备球形钼粉颗粒的步骤,通过将球形钼粉颗粒装入管靶模具中冷等静压制成型以及将压制好的粉质钼管坯预烧结处理获得理想孔隙度范围的钼管坯,再通过熔渗钼酸钠获得需求钠含量的钼钠合金管坯体,将钼钠合金管坯体装入钛板卷制的空心管状模具中完成真空封口焊接,最后通过热等静压制进一步提高钼钠合金旋转靶密度,本发明制得的旋转靶的相对密度>98.0%,Na含量处于0.5%‑2.5%之间,本发明制成的靶材密度高,成分均匀,可进行后续的机械加工,镀膜效果好并且能够快速实现国产化量产。
  • 一种用于抑制二次电子发射的碳基薄膜及其制备方法-201910622005.0
  • 胡文波;易兴康;李洁;高步宇;李永东;吴胜利;林舒 - 西安交通大学
  • 2019-07-10 - 2019-11-01 - C23C14/34
  • 本发明公开了一种用于抑制二次电子发射的碳基薄膜及其制备方法,该薄膜由金属缓冲层和非晶碳层组成,金属缓冲层厚度为5‑50nm,非晶碳层厚度为30‑200nm,非晶碳膜层中碳颗粒尺寸为20‑100nm,金属缓冲层中的金属材料为钛、钼或钨。碳基薄膜的制备包括以下步骤:首先,在基底温度为400‑600℃条件下,采用溅射金属靶的方式在基底上沉积金属缓冲层;其次,在基底温度为300‑600℃条件下,采用溅射石墨靶的方式在金属缓冲层上沉积非晶碳膜层;最后,对非晶碳膜进行高温退火处理或(和)利用氩离子对非晶碳膜层表面进行溅射处理。采用该方法制备的碳基薄膜,可以提高非晶碳膜的sp2键含量及表面粗糙度,从而降低其二次电子发射系数。
  • 一种溅射旋转铝铜合金靶材及其制备方法-201910734709.7
  • 吴健;雷雨;肖世洪;周志宏;沈艳斌;周昭寅 - 广州市尤特新材料有限公司
  • 2019-08-09 - 2019-11-01 - C23C14/34
  • 本发明公开了一种溅射旋转铝铜合金靶材及其制备方法。所述溅射旋转铝铜合金靶材包括以下重量百分比的组分:难熔物质0.2‑3wt%、铜0.5‑6wt%和铝余量,所述难熔物质为熔点超过1500℃的金属或氧化物。本发明以高纯铝粉、铜粉、难熔金属或氧化物粉末为原料,经冷喷涂制备旋转铝铜合金靶材。本发明所用方法工艺简单、操作方便,适合大规模工业生产,制备出的靶材纯度高(≥99.9%)、相对密度大(≥95%),氧含量小于1500ppm,综合性能优异。
  • 一种曲面盖板的镀膜装置、镀膜方法和可读存储介质-201810113644.X
  • 杨鹏;周伟杰 - 信利光电股份有限公司
  • 2018-02-05 - 2019-10-29 - C23C14/34
  • 本发明公开了一种曲面盖板的镀膜装置、镀膜方法和可读存储介质。该镀膜装置包括:溅射机构,用于向预定方向以一定的溅射速率喷射出镀膜材料;移动机构,用于带动所述曲面盖板移动,将所述曲面盖板上不同的镀膜区域依次移动至预定方向上;修正机构,用于在所述镀膜材料的喷射路径上将所述镀膜材料由溅射速率依次修正至与预定方向上的镀膜区域相对应的镀膜速率。该镀膜装置能够解决曲面盖板的镀膜不均匀问题,提高曲面显示屏的画面质量。
  • 一种太阳能电池CIGS靶材的快速制备方法-201910620889.6
  • 王吉林;廖和杰;郑国源;龙飞;吉钰纯;莫淑一;周炳;邹正光 - 桂林理工大学
  • 2019-07-10 - 2019-10-25 - C23C14/34
  • 本发明涉及一种太阳能电池CIGS靶材的快速制备方法,其包括制备铜铟镓硒四元粉,硒化亚铜粉,以及硒化铜粉,然后烧结成CIGS四元靶。首先将称量好的三种原料粉研磨,然后分别放入行星球磨机内混合12‑48h(公转300‑500转/分,公转和自转比为1:2,球磨罐材料为氧化锆内衬,球磨介质为酒精,磨球材料为ZrO2,抽真空后向腔体内充入氩气)使之合金化,随后将粉体置于放电等离子体烧结炉中(冲入氩气等惰性气体,抑制Se的挥发)烧结制备得到铜铟镓硒四元靶。本发明工艺采用SPS烧结,简单有效,相较于传统的热压及其他烧结来说,效率更高,能够做到在较低温度、短时间内快速烧结,烧结制备的的晶粒尺寸较小,在同等条件下制备得到的靶材相对密度更高,达98%以上。
  • 一种平板显示溅射靶材-201822060625.3
  • 卢建栋;张小伟;张扬 - 东曹(上海)电子材料有限公司
  • 2018-12-08 - 2019-10-25 - C23C14/34
  • 本实用新型公开了一种平板显示溅射靶材,涉及溅射靶材领域,包括背板和靶材,背板和靶材之间填充有焊料层,焊料层内嵌设有用于固定背板和靶材之间距离的定位件,定位件同时与背板和靶材抵接。针对现有技术存在靶材与背板难以确保平行的问题,本实用新型在背板和靶材之间设置定位件,使背板和靶材之间的距离保持为定位件的厚度,从而确保背板和靶材平行,有效提高产品的加工精度。
  • 一种溅射靶材加热平台-201822060654.X
  • 卢建栋;张小伟;张扬 - 东曹(上海)电子材料有限公司
  • 2018-12-08 - 2019-10-25 - C23C14/34
  • 本实用新型公开了一种溅射靶材加热平台,涉及加热平台,包括机架,机架上固定有多个加热块,加热块内插接连接有多个电热棒,多个加热块一侧抵接有多个用于加热溅射靶材的垫板,多个加热块沿垫板的长度方向设置,机架周侧固定有用于收集多余焊料的收集槽,机架于垫板的两端均固定有用于固定溅射板的固定组件。针对现有技术存在过多焊料融化后易滴落至车间内的问题,本实用新型通过在机架周侧设置收集槽,有效避免多余焊料滴落至车间内,确保车间内的卫生和清洁。
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top