[发明专利]离子注入系统、确定离子束的轮廓的方法和执行剂量控制的方法有效
| 申请号： | 201480062577.3 | 申请日： | 2014-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN105723247B | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 佐藤秀 | 申请（专利权）人： | 艾克塞利斯科技公司 |
| 主分类号： | G01T1/34 | 分类号： | G01T1/34 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 杨静 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 测量 横向 强度 分布 方法 | ||
1.一种离子注入系统，其特征在于包括：
离子源，被配置为产生离子束，所述离子束具有与其相关联的离子束电流；
质量分析器，被配置为对离子束进行质量分析；
束轮廓确定装置，被配置为在预定时间内沿轮廓确定平面平移通过离子束，其中，束轮廓确定装置还被配置为与所述平移并发地横跨离子束的宽度来测量束电流，其中限定离子束的与时间和位置相关的束电流轮廓；
束电流监测装置，其中，束监测装置被配置为在所述预定时间内测量离子束的离子束电流，其中限定与时间相关的离子束电流；以及
控制器，被配置为在同步时间收集来自束轮廓确定装置和束电流监测装置的束电流数据，并通过将离子束的与时间和位置相关的束电流轮廓除以与时间相关的离子束电流来确定与时间无关的离子束轮廓，其中抵消离子束电流在所述预定时间内的波动。
2.根据权利要求1所述的离子注入系统，其特征在于，束轮廓确定装置包括法拉第杯。
3.根据权利要求1所述的离子注入系统，其特征在于，法拉第杯包括窄缝，所述窄缝允许离子束的一部分通过以进入。
4.根据权利要求1所述的离子注入系统，其特征在于，束电流监测装置包括具有窄缝的法拉第杯，其中，法拉第杯位于离子束的边缘处并被配置为测量所述离子束的边缘处的离子束电流。
5.根据权利要求4所述的离子注入系统，其特征在于，束电流监测装置包括分别位于离子束的相对边缘处的一对法拉第杯，其中，所述一对法拉第杯被配置为测量离子束的相应边缘处的离子束电流。
6.根据权利要求1所述的离子注入系统，其特征在于还包括：扫描器，位于质量分析器的下游，并被配置为扫描离子束，其中形成带状扫描的离子束。
7.根据权利要求6所述的离子注入系统，其特征在于，束监测装置被配置为测量所述带状扫描的离子束的边缘处的离子束电流。
8.根据权利要求6所述的离子注入系统，其特征在于，束电流监测装置包括位于带状离子束的第一横向边缘处的第一法拉第杯以及位于带状离子束的第二横向边缘处的第二法拉第杯。
9.根据权利要求1所述的离子注入系统，其特征在于，控制器被配置为接收来自第一法拉第杯的第一离子束电流测量、来自第二法拉第杯的第二离子束电流测量，并根据第一离子束电流测量和第二离子束电流测量来计算平均离子束电流，其中，通过将离子束的与时间和位置相关的束电流轮廓除以所述平均离子束电流来实现与时间无关的离子束轮廓的确定。
10.根据权利要求1所述的离子注入系统，其特征在于，束电流监测装置位于束轮廓确定装置的上游。
11.一种用于确定离子束的与时间无关的轮廓的方法，其特征在于所述方法包括：
通过在预定时间内将束轮廓确定装置平移通过离子束，横跨离子束的宽度来测量离子束电流，其中限定离子束的与时间和位置相关的轮廓；
经由束电流监测装置，测量所述预定时间内在离子束的边缘处的离子束电流，其中限定与时间相关的离子束电流；以及
通过将离子束电流的与时间和位置相关的轮廓除以与时间相关的离子束电流来计算与时间无关的离子束轮廓，其中，抵消离子束电流在所述预定时间内的波动。
12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，束电流监测装置位于束轮廓确定装置的上游。
13.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，测量离子束的边缘处的离子束电流包括：经由束电流监测装置测量所述预定时间内在离子束的第一边缘处和第二边缘处的离子束电流，其中，通过对在离子束的第一边缘处和第二边缘处测量的离子束电流求平均来限定所述与时间相关的离子束电流。
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