[实用新型]磁控溅射金属氧化物的设备有效
| 申请号： | 201420679051.7 | 申请日： | 2014-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN204125528U | 公开（公告）日： | 2015-01-28 |
| 发明（设计）人： | 徐磊;郭瑞;赵景训;秦心宇;卜凡中;贺良伟 | 申请（专利权）人： | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54;C23C14/04 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 唐清凯 |
| 地址： | 215300 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种磁控溅射金属氧化物的设备，通过电阻检测装置检测金属靶材或掩膜的表面电阻来确定附在金属靶材或掩膜表面的金属氧化物薄膜的厚薄，从而决定是继续为产品载片成膜，还是先撤出产品载片而输送另外的辅助载片到溅射位置；经过溅射源装置轰击靶材一段时间后，附在金属靶材表面的金属氧化物薄膜也就被轰击掉而露出金属靶材本身的金属，附在掩膜表面的金属氧化物薄膜也被新的金属薄膜掩盖。等到电阻检测装置检测到的金属靶材或掩膜的表面电阻达到要求后，再将辅助载片撤出而将产品载片重新输送到溅射位置继续成膜，使得成膜速率降高和成膜的均匀性较好。上述磁控溅射金属氧化物的设备既能准确判断金属靶材和掩膜表面的状况，又能减少开腔频率。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 金属 氧化物 设备 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射金属氧化物的设备，其特征在于，包括：处理装置；溅射源装置；用于检测金属靶材或掩膜的表面电阻的电阻检测装置；用于输送氧气的氧气阀门；用于输送惰性气体的惰性气体阀门；用于控制氧气阀门和惰性气体阀门的气体控制装置；和用于运输产品载片和辅助载片的运输装置；其中，所述处理装置根据所述电阻检测装置检测的电阻值控制所述气体控制装置和所述运输装置。
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