[实用新型]一种适应性耦合等离子刻蚀机

摘要

本实用新型提供一种适应性耦合等离子刻蚀机，所述刻蚀机至少包括：具有反应空间并在反应空间中产生等离子体的反应腔、设置于所述反应腔中且用于支撑所述晶圆的下电极、设置于所述反应腔上部中心区域的衬套、以及从所述衬套螺旋地延伸并环绕所述衬套的线圈组件；所述衬套与一射频电源相连接；所述下电极与一直流偏压源和射频偏压源相连接；所述线圈组件、射频电源、直流偏压源以及射频偏压源均接地。本实用新型通过在下电极上除了连接射频偏压源，还连接一直流偏压源，利用直流偏压源预先对晶圆上的光刻剂层进行离子注入处理，使光刻剂层两侧光滑平整，从而使后续刻蚀形成的栅极结构两侧粗糙度降低，提高产品的产率。

主权项

一种适应性耦合等离子刻蚀机，用于刻蚀晶圆，其特征在于，所述适应性耦合等离子刻蚀机至少包括： 具有反应空间并在反应空间中产生等离子体的反应腔、设置于所述反应腔中且用于支撑所述晶圆的下电极、设置于所述反应腔上部中心区域的衬套、以及从所述衬套螺旋地延伸并环绕所述衬套的线圈组件； 所述衬套与一射频电源相连接；所述下电极与一直流偏压源和射频偏压源相连接；所述线圈组件、射频电源、直流偏压源以及射频偏压源均接地。