[实用新型]真空等离子体表面处理设备有效
| 申请号： | 201420044840.3 | 申请日： | 2014-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN203691734U | 公开（公告）日： | 2014-07-02 |
| 发明（设计）人： | 刘善双;毕学谦;刘镇伟 | 申请（专利权）人： | 深圳市奥坤鑫科技有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型适用于等离子处理技术领域，提供了一种真空等离子体表面处理设备，用于处理卷绕材料，所述处理设备具有壳体，所述壳体内具有真空腔室，所述真空腔室内容置有放料轴、收料轴及若干导向轴，所述放料轴和收料轴分别由两个伺服电机驱动，所述真空腔室内还设有导向装置、纠偏感应器以及由正负电极板构成的若干等离子区域。实际应用时，卷绕材料绕过所述导向装置上的两个导辊并通过所述纠偏感应器最后收于所述收料轴。本实用新型操作简单、节约成本、生产率高且能在真空环境下直接对所有需要进行等离子体表面处理。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 等离子体 表面 处理 设备 | ||
【主权项】：
一种真空等离子体表面处理设备，用于处理卷绕材料，其特征在于，所述处理设备具有壳体，所述壳体内具有真空腔室，所述真空腔室内容置有放料轴、收料轴及若干导向轴，所述放料轴和收料轴分别由两个伺服电机驱动，所述真空腔室内还设有导向装置、纠偏感应器以及由正负电极板构成的若干等离子区域。
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