[发明专利]一种阵列基板的掺杂方法和掺杂设备

摘要

本发明公开了一种阵列基板的掺杂方法及掺杂设备，其方法包括提供定义有待重掺杂区、待轻掺杂区以及待掺杂沟道区的基板；通过光刻工艺在基板上形成光阻层，该光阻层对应待重掺杂区形成第一光阻部，对应待轻掺杂区形成第二光阻部，对应待掺杂沟道区形成第三光阻部，第一光阻部比第二光阻部薄，第二光阻部比第三光阻部薄；经光阻层对待重掺杂区、待轻掺杂区以及待掺杂沟道区进行一次掺杂，以一次形成分别与待重掺杂区、待轻掺杂区以及待掺杂沟道区对应的重掺杂区、轻掺杂区和沟道区。通过上述方式，本发明能够实现对基板的沟道区、重掺杂区以及轻掺杂区的一次掺杂，简化工艺，降低成本。

主权项

一种阵列基板的掺杂方法，其特征在于，所述掺杂方法包括：提供基板，所述基板上定义有待重掺杂区、待轻掺杂区以及待掺杂沟道区；通过光刻工艺在所述基板上形成光阻层，其中，所述光阻层对应所述待重掺杂区形成第一光阻部，对应所述待轻掺杂区形成第二光阻部，对应所述待掺杂沟道区形成第三光阻部，所述第一光阻部比所述第二光阻部薄，所述第二光阻部比所述第三光阻部薄；经所述光阻层对所述待重掺杂区、待轻掺杂区以及待掺杂沟道区进行一次掺杂，以一次形成分别与所述待重掺杂区、待轻掺杂区以及待掺杂沟道区对应的重掺杂区、轻掺杂区和沟道区。