[发明专利]光刻设备有效
| 申请号： | 201410604047.9 | 申请日： | 2014-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN105629669B | 公开（公告）日： | 2017-12-29 |
| 发明（设计）人： | 徐伟;单世宝 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种光刻设备，其特征在于，包括一基础平台，以及位于所述基础平台上的工件台、掩模台、工件台驱动装置、掩模台驱动装置和平衡质量，所述平衡质量分别连接所述工件台驱动装置和掩模台驱动装置，用以实现所述光刻设备扫描曝光过程中所述工件台和掩模台的同步反向运动。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，其特征在于，包括：一基础平台、位于所述基础平台上的工件台、掩模台、工件台驱动装置、掩模台驱动装置和平衡质量，其中，所述平衡质量包括第一平衡质量块、第二平衡质量块以及连接所述第一平衡质量块和所述第二平衡质量块的平衡质量连接件，所述第一平衡质量块和所述第二平衡质量块分别连接所述工件台驱动装置和所述掩模台驱动装置，所述平衡质量连接件使所述第一平衡质量块和所述第二平衡质量块同步反向运动从而实现在所述光刻设备扫描曝光过程中所述工件台和所述掩模台同步反向运动。
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