[发明专利]消影玻璃中折射率匹配层的连续沉积方法

摘要

一种消影玻璃中折射率匹配层的连续沉积方法，包括(a)使用第一工作气体对靶材进行溅射，以使得所述靶材材料的原子沉积在基片上；并且(b)使用第二工作气体对所述靶材进行溅射，以使得所述靶材材料的原子沉积在所述基片上。本发明采用磁控溅射法在不换靶的情况下，仅通过改变通入的气体就可以实现折射率匹配层的制备，结构简单，制备方便，成本低，可以有效消除刻蚀阴影，有利于企业大规模生产。

主权项

1.一种消影玻璃中折射率匹配层的连续沉积方法，其特征在于，包括如下步骤：(a)使用第一工作气体对靶材进行溅射，以使得所述靶材材料的原子沉积在基片上；所述靶材为硅；所述第一工作气体为氮气和氩气；氩气流量20‑30sccm，氮气流量4‑12sccm，工作压强0.4‑0.8Pa，溅射功率密度为5‑7W/cm²，以在所述基片上沉积SiNx膜层；沉积得到的SiNx膜层，膜层厚度5‑15nm，折射率在光波550nm处为2.1‑2.3；SiNx膜层制备后，关闭氩气和氮气源，在抽真空环境下充入高纯氩气预溅射硅靶材，清除硅靶材表面的氮化物；(b)使用第二工作气体对所述靶材进行溅射，以使得所述靶材材料的原子沉积在所述基片上；所述靶材为硅；所述第二工作气体为氧气和氩气；氩气流量20‑30sccm，氧气流量3‑8sccm，工作压强0.4‑0.8Pa，溅射功率密度为5‑7W/cm2，以在所述基片上沉积SiO2膜层；沉积得到的SiO2膜层，膜层厚度30‑80nm，折射率在光波550nm处为1.4‑1.5。