[发明专利]具有气封的化学沉积腔室

摘要

本发明公开了一种用于密封化学沉积装置中的处理区的系统，所述系统包括：化学隔离腔室，所述化学隔离腔室具有在所述化学隔离腔室内形成的沉积腔室；具有面板的喷头模块，所述喷头模块包括多个将反应器化学物质输送到用于对半导体衬底进行处理的空腔中的入口以及将反应器化学物质和惰性气体从所述空腔中去除的排出口，以及被配置成输送惰性气体的外部充气室；基座模块，所述基座模块被配置成支撑衬底并且垂直移动以封闭所述空腔而在所述基座模块与围绕所述面板的外部部分的台阶之间存在狭窄间隙；以及惰性密封气体进料，所述惰性密封气体进料被配置成将所述惰性密封气体送入到所述外部充气室中，并且其中所述惰性密封气体至少部分地沿径向向内流过所述狭窄间隙以形成气封。

主权项

一种用于密封化学沉积装置中的处理区的系统，所述系统包括：化学隔离腔室，所述化学隔离腔室具有在所述化学隔离腔室内形成的沉积腔室；喷头模块，其具有面板和背衬板，所述喷头模块包括多个将反应器化学物质输送到用于对半导体衬底进行处理的空腔中的入口以及将反应器化学物质和惰性气体从所述空腔中去除的排出口，以及被配置成输送惰性气体的外部充气室；基座模块，所述基座模块被配置成支撑衬底并且垂直移动以封闭所述空腔而在所述基座模块与围绕所述面板的外部部分的台阶之间存在狭窄间隙；以及惰性密封气体进料，所述惰性密封气体进料被配置成将所述惰性密封气体送入到所述外部充气室中，并且其中所述惰性密封气体至少部分地沿径向向内流过所述狭窄间隙以形成气封。