[发明专利]用于光刻的高生产量和小占位面积扫描曝光的系统和方法

摘要

本发明提供用于光刻的高生产量和小占位面积扫描曝光的系统和方法。一种光刻系统，其包括辐射源和曝光工具，曝光工具包括在第一方向上密集地封装的多个曝光柱。每个曝光柱都包括被配置成经过辐射源的曝光区域。该系统还包括晶圆载体，被配置成固定并且沿着垂直于第一方向的第二方向移动一个或多个晶圆，使得一个或多个晶圆通过曝光工具曝光，以沿着第二方向形成图案。一个或多个晶圆覆盖有光刻胶层并且在晶圆载体上以第二方向对准。

主权项

一种光刻系统，包括：辐射源；曝光工具，包括在第一方向上封装的多个曝光柱，每个曝光柱都包括被配置成经过所述辐射源的曝光区域；以及晶圆载体，被配置成固定并且沿着垂直于所述第一方向的第二方向移动一个或多个晶圆，使得所述一个或多个晶圆通过所述曝光工具曝光，以沿着所述第二方向形成图案，所述一个或多个晶圆覆盖有光刻胶层，并且在所述晶圆载体上以所述第二方向对准；其中，所述多个曝光柱沿着所述第二方向封装为多于一行；所述曝光柱的两个邻近行沿着所述第一方向移动的距离等于所述曝光柱的半径，所述两个邻近行形成单元柱组件(UCA)；沿着所述第二方向封装多个单元柱组件，以及两个邻近单元柱组件沿着所述第一方向移动的距离小于所述曝光柱的所述半径。