[发明专利]一种半导体物理研磨组合物在审
| 申请号： | 201410296829.0 | 申请日： | 2014-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN104046329A | 公开（公告）日： | 2014-09-17 |
| 发明（设计）人： | 范向奎 | 申请（专利权）人： | 青岛宝泰新能源科技有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;C09G1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266000 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半导体物理研磨组合物，其特征在于，包括下列重量份数的物质：亲水基表面活性剂2-6份，磷化液4-6份，钝化液1-3份，陶化剂1-3份，氢氧化钙4-8份，八水合氢氧化钡7-10份，氢氧化钠7-16份，酒石酸钾钠7-10份，过氧化氢7-9份，硫酸锌1-3份，硫酸镁2-4份，硬脂酸钙3-8份，硬脂酸4-13份，抗氧剂2-4份，防老剂1份，氯化钙2-5份。本发明的化学机械研磨剂中包括亲水基表面洁性剂材料，可以降低化学机械研磨剂和正在水性薄膜间的表面张力，使化学机械研磨剂和琉水性薄膜更紧密贴合。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 物理 研磨 组合 | ||
【主权项】：
一种半导体物理研磨组合物，其特征在于，包括下列重量份数的物质：亲水基表面活性剂2‑6份，磷化液4‑6份，钝化液1‑3份，陶化剂1‑3份，氢氧化钙4‑8份，八水合氢氧化钡7‑10份，氢氧化钠7‑16份，酒石酸钾钠7‑10份，过氧化氢7‑9份，硫酸锌1‑3份，硫酸镁2‑4份，硬脂酸钙3‑8份，硬脂酸4‑13份，抗氧剂2‑4份，防老剂1份，氯化钙2‑5份。
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