[发明专利]具有硅片刻号读取及硅片存储装置的双曝光平台之曝光机在审

专利信息
申请号: 201410162785.2 申请日: 2014-04-22
公开(公告)号: CN104076615A 公开(公告)日: 2014-10-01
发明(设计)人: 童立峰;戴韫青;王剑 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 王宏婧
地址: 201203 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种具有硅片刻号读取及硅片存储装置的双曝光平台之曝光机,包括:硅片刻号读取装置,设置在硅片入端和具有硅片刻号读取及硅片存储装置的双曝光平台之曝光机的第一曝光平台和第二曝光平台之间;硅片存储装置,用于存储前层曝光机台与当前闲置机台不一致之硅片;第一曝光平台和第二曝光平台,第一曝光平台用于曝光前层曝光机台为第一曝光平台的硅片,第二曝光平台用于曝光前层曝光机台为第二曝光平台的硅片。本发明通过在硅片入端和第一曝光平台和第二曝光平台之间设置硅片刻号读取装置,并根据硅片之刻号信息获得硅片之前层曝光机台信息,以保证后层曝光机台与前层曝光机台一致,不仅提高硅片前后层堆叠对准度,而且改善产品质量,提高产品良率。
搜索关键词: 具有 硅片 读取 存储 装置 曝光 平台
【主权项】:
一种具有硅片刻号读取及硅片存储装置的双曝光平台之曝光机,其特征在于,所述曝光机包括: 硅片刻号读取装置,设置在硅片入端和具有硅片刻号读取及硅片存储装置的双曝光平台之曝光机的第一曝光平台和第二曝光平台之间; 硅片存储装置,用于存储前层曝光机台与当前闲置机台不一致之硅片; 第一曝光平台和第二曝光平台,所述第一曝光平台用于曝光前层曝光机台为第一曝光平台的硅片,所述第二曝光平台用于曝光前层曝光机台为第二曝光平台的硅片。 
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