[发明专利]一种并行激光直写系统及光刻方法有效
| 申请号： | 201410076822.8 | 申请日： | 2014-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN103777474A | 公开（公告）日： | 2014-05-07 |
| 发明（设计）人： | 浦东林;胡进;朱鹏飞;魏国军;袁晓峰;陈林森 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 唐灵;常亮 |
| 地址： | 215123 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种并行激光直写系统及光刻方法，通过设置两个或多个图形发生器，将不同的图形发生器按不同的角度放置，使得每个角度的斜线都能通过对应图形发生器中的水平或垂直直线像素进行显示，从而消除了原有的斜线上的锯齿现象，并保证了直线和斜线之间的线宽相等，提高了图形的线宽均匀性，使得光刻工艺的精度和品质得到改善。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 并行 激光 系统 光刻 方法 | ||
【主权项】：
一种并行激光直写系统，包括光源、图形发生系统、光学系统、控制系统和工件平台，其特征在于：所述图形发生系统包括多个图形发生器，将不同的图形发生器按不同的角度设置，以其中一台图形发生器为标准显示器，其显示的图形中水平像素所在的直线方向为标准水平方向，其余图形发生器上的水平像素和/或竖直像素显示的线条方向对应标准方向上所需曝光的图形中所含斜线的角度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州大学，未经苏州大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410076822.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
