[发明专利]一种用于光刻机的浸液维持、更新装置有效
| 申请号： | 201410070265.9 | 申请日： | 2014-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN104880912B | 公开（公告）日： | 2017-03-29 |
| 发明（设计）人： | 张崇明;聂宏飞;杨志斌;张洪博 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种用于光刻机的浸液维持、更新装置，其特征在于包括安装面板、第一液体进口、第二液体进口、第一液体抽取口、第二液体抽取口和第三液体抽取口，安装面板中设置气体/液体通道，与第一液体进口、第一液体抽取口、第二液体进口、第二液体抽取口、第三液体抽取口相连接；第二液体抽取口位于第二液体进口外侧，第二液体抽取口被嵌于第三液体抽取口内侧，所述第三液体抽取口为多孔板。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光刻 浸液 维持 更新 装置 | ||
【主权项】：
一种用于光刻机的浸液维持、更新装置，其特征在于：包括安装面板、第一液体进口、第二液体进口、第一液体抽取口、第二液体抽取口和第三液体抽取口，安装面板中设置气体/液体通道，与第一液体进口、第一液体抽取口、第二液体进口、第二液体抽取口、第三液体抽取口相连接；第二液体抽取口位于第二液体进口外侧，第二液体抽取口被嵌于第三液体抽取口内侧，所述第三液体抽取口为多孔板；所述第二液体进口的流量和第二液体抽取口的气体抽取流量满足其中，ρair为气体密度，vair为气体速度，ρwater为液体密度，vwater为液体流速，pstatic为静压差。
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