[发明专利]用于制造光电子器件的方法有效

专利信息
申请号: 201380050764.5 申请日: 2013-09-25
公开(公告)号: CN104704642B 公开(公告)日: 2019-07-16
发明(设计)人: 西格弗里德·赫尔曼;诺温·文马尔姆 申请(专利权)人: 欧司朗光电半导体有限公司
主分类号: H01L33/46 分类号: H01L33/46;H01L33/00;H01L33/38
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张春水;高少蔚
地址: 德国雷*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种光电子器件和一种用于制造光电子器件的方法,其中在生长衬底上生长层结构,所述层结构具有正掺杂的半导体层(2或3)和负掺杂的半导体层(3或2)连同用于产生光的有源区以及镜层(4),其中所述层结构经由连接层(8)固定在载体(10)的第一侧上,并且其中经由载体(10)的第二侧引入用于层结构的电接触部,并且去除生长衬底。
搜索关键词: 用于 制造 光电子 器件 方法
【主权项】:
1.一种用于制造光电子器件的方法,其中在生长衬底(1)上生长层结构,所述层结构具有第一半导体层(2)、第二半导体层(3),并且具有用于产生光的有源区(16),其中将镜层(4)施加到背离所述生长衬底的所述第二半导体层上,其中所述层结构经由连接层(8)固定在载体(10)的第一侧上,其中经由所述载体的第二侧引入用于所述层结构的接触盘(18,19),其中将第一凹部(14)引入到所述载体(10)、所述连接层(8)和所述第二半导体层(3)中,使得所述第一凹部邻接所述第一半导体层(2),其中将用于电接触所述第一半导体层(2)的第一接触盘(18)引入到所述第一凹部中,以至于所述第一接触盘延伸穿过所述载体(10)、所述连接层(8)和所述第二半导体层(3)进入到所述第一半导体层(2)中,并且其中去除所述生长衬底。
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