[实用新型]一种用于化学机械抛光的抛光垫有效
| 申请号： | 201320474504.8 | 申请日： | 2013-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN203390717U | 公开（公告）日： | 2014-01-15 |
| 发明（设计）人： | 唐强 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种用于化学机械抛光的抛光垫，所述用于化学机械抛光的抛光垫至少包括：抛光垫本体，具有一旋转中心；用于分布抛光液的凹槽，设于所述抛光垫本体上，所述凹槽包括第一凹槽和第二凹槽，所述第一凹槽是以抛光垫本体的旋转中心为圆心的至少两个同心环；所述第二凹槽是由多条沿抛光垫本体的径向分布且以同心环为起点、以抛光垫本体的边缘为终点的曲线组成；所述每条曲线呈S型。通过在抛光垫本体上设置第一凹槽与第二凹槽的组合凹槽结构，保证抛光时将抛光液有效地滞留且均匀分布在抛光垫上，减少抛光液的用量，节约成本。另外，本实用新型提供的抛光垫凹槽结构，可以减少抛光垫边缘残留物的堆积，进而改善晶圆的抛光率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 化学 机械抛光 抛光 | ||
【主权项】：
一种用于化学机械抛光的抛光垫，其特征在于，所述用于化学机械抛光的抛光垫至少包括：抛光垫本体，具有一旋转中心；用于分布抛光液的凹槽，设于所述抛光垫本体上，所述凹槽包括第一凹槽和第二凹槽，其中，所述第一凹槽是以抛光垫本体的旋转中心为圆心的至少两个同心环。
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