[实用新型]气相处理装置有效
| 申请号： | 201320090246.3 | 申请日： | 2013-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN203112919U | 公开（公告）日： | 2013-08-07 |
| 发明（设计）人： | 张明;郑云友 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C16/44;H01J37/305;H01J37/32;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 罗建民;邓伯英 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种气相处理装置，属于基底处理技术领域，其可解决现有的气相处理装置容易因为抽气泵抽气能力的差异及抽气口位置分布而引起处理效果不均的问题。本实用新型的气相处理装置用于在气相环境下对处理腔室中的基底进行处理，所述气相处理装置包括：处理腔室，其包括多个设于不同位置的抽气口；多个抽气泵，用于通过抽气口对处理腔室抽气；且至少有一个所述抽气泵通过多根抽气管分别与多个抽气口相连通。 | ||
| 搜索关键词： | 相处 装置 | ||
【主权项】：
一种气相处理装置，用于在气相环境下对处理腔室中的基底进行处理，所述气相处理装置包括：处理腔室，包括多个设于不同位置的抽气口；多个抽气泵，用于通过抽气口对处理腔室抽气；其特征在于，至少有一个所述抽气泵通过多根抽气管分别与多个抽气口相连通。
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