[实用新型]气相处理装置有效
| 申请号： | 201320090246.3 | 申请日： | 2013-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN203112919U | 公开（公告）日： | 2013-08-07 |
| 发明（设计）人： | 张明;郑云友 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C16/44;H01J37/305;H01J37/32;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 罗建民;邓伯英 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 相处 装置 | ||
1.一种气相处理装置，用于在气相环境下对处理腔室中的基底进行处理，所述气相处理装置包括：
处理腔室，包括多个设于不同位置的抽气口；
多个抽气泵，用于通过抽气口对处理腔室抽气；
其特征在于，
至少有一个所述抽气泵通过多根抽气管分别与多个抽气口相连通。
2.根据权利要求1所述的气相处理装置，其特征在于，
至少有一个抽气口通过多根抽气管与多个抽气泵相连通。
3.根据权利要求2所述的气相处理装置，其特征在于，
每个所述抽气泵均通过多根抽气管分别与所有的抽气口相连通。
4.根据权利要求1所述的气相处理装置，其特征在于，
某一抽气泵通过多根抽气管与多个抽气口相连通，则与该抽气泵相连通的各抽气口对于该抽气泵的∑r4/L值相等；其中，r为一根与该抽气泵相连通的抽气管的内半径，L为该抽气管的长度，∑表示对连接在一个抽气口与该抽气泵间的全部抽气管的r4/L值进行求和。
5.根据权利要求1所述的气相处理装置，其特征在于，
所述抽气管上设有流量控制器。
6.根据权利要求5所述的气相处理装置，其特征在于，
所述流量控制器位于处理腔室之外。
7.根据权利要求5所述的气相处理装置，其特征在于，
所述抽气管上还设有流量检测器。
8.根据权利要求7所述的气相处理装置，其特征在于，
所述流量检测器位于处理腔室之外。
9.根据权利要求1至8中任意一项所述的气相处理装置，其特征在于，
各所述抽气口围绕用于放置所述基底的位置周边均匀分布。
10.根据权利要求1至8中任意一项所述的气相处理装置，其特征在于，
所述气相处理装置为干法刻蚀装置、等离子体增强化学气相沉积装置、蒸镀装置、溅射装置、分子束外延生长装置、原子层沉积装置中的任意一种。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320090246.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：负压式动物唾液收集器
- 下一篇：一种儿童做核磁共振检查用防护装置
- 同类专利
- 专利分类
