[发明专利]一种提高瑞格列奈片稳定性的制备方法在审
| 申请号： | 201310697473.7 | 申请日： | 2013-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN103690498A | 公开（公告）日： | 2014-04-02 |
| 发明（设计）人： | 方玲利;魏爱伟;毕华 | 申请（专利权）人： | 北京华禧联合科技发展有限公司 |
| 主分类号： | A61K9/20 | 分类号： | A61K9/20;A61K31/451;A61P3/10;A61J3/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 102206 北京市海淀区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种瑞格列奈片组合物，该组合物包含活性成分瑞格列奈、稀释剂、崩解剂、增溶剂、润滑剂；本发明还公开了瑞格列奈片组合物的制备方法，采用粉末直接压片，避开了干燥过程中湿热对产品质量的影响，且生产操作方便，有关物质含量低，稳定性佳。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 瑞格列奈片 稳定性 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种瑞格列奈片，其特征在于：其辅料组成包括稀释剂、崩解剂、增溶剂、润滑剂；将原料与辅料混合后粉末直接压片。
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