[发明专利]一种台阶形沟槽-场限环复合终端结构有效

专利信息
申请号: 201310695830.6 申请日: 2013-12-17
公开(公告)号: CN103746002A 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: 王彩琳;王一宇 申请(专利权)人: 西安理工大学
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L29/06
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 李娜
地址: 710048*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种台阶形沟槽-场限环复合终端结构,在芯片的中央区域为有源区,外围区域为终端区,有源区和终端区共同的n-衬底下方依次为n型FS层、p+阳极区及其阳极;在有源区中,n-基区中设置有多个并联的单元,每个单元内与n-基区相邻的是波状p基区,p基区上面为p+基区,p+基区中央设置有一个阴极n+发射区,每个n+发射区上方设置有阴极;p+基区上方设置有一个门极;在终端区的n-衬底内,设有与主结相连的两级场限环,场限环的上面有台阶状沟槽。本发明的复合终端结构可使终端击穿电压达到理想体击穿电压的95%以上。
搜索关键词: 一种 台阶 沟槽 场限环 复合 终端 结构
【主权项】:
一种台阶形沟槽‑场限环复合终端结构,其特征在于:将芯片的中央区域作为有源区,将有源区外围区域作为终端区,有源区和终端区共同的n衬底下方设置有n型FS层,在n型FS层下方设置有p+阳极区及其阳极;在有源区中,n基区中设置有多个并联的单元,每个单元内与n基区相邻的是波状p基区,p基区上面为p+基区,p+基区中央设置有一个阴极n+发射区,每个n+发射区上方设置有阴极;p+基区上方设置有门极,并且整个门极环绕在所包围的阴极n+发射区的周围;在有源区中,n基区中设置有多个并联的单元,每个单元内与n基区相邻的是波状p基区,p基区上面为p+基区,p+基区中央设置有一个阴极n+发射区,每个n+发射区上方设置有阴极电极;p+基区上方设置有门极,并且整个门极电极环绕在所包围的阴极区的周围;在终端区的n衬底内,在主结外侧依次设置了两个宽度相同、间距不同的场限环,选择性地除去场限环上面高浓度的p+区,使主结与两个场限环之间通过p+区相连,同时使上面的p+区沟槽成台阶形状,台阶最低面位于p+区的终止位置,沟槽最大深度与p+区厚度相同,沟槽区填充有钝化层。
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