[发明专利]一种提高透射电子显微镜照射样品成功率的方法无效
申请号: | 201310597909.5 | 申请日: | 2013-11-22 |
公开(公告)号: | CN103645204A | 公开(公告)日: | 2014-03-19 |
发明(设计)人: | 高林;唐涌耀;陈强;高金德 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G01N23/225 | 分类号: | G01N23/225 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 竺路玲 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提出了一种提高透射电子显微镜照射样品成功率的方法,通过取样系统中玻璃针的吸附力提取样品以及破损碳膜,摆放在碳膜上表面完好的区域,重新让透射电子显微镜对样品进行拍照,有效地降低了样品的损坏率,改善了透射电子显微镜对样品照射的成功率,降低了流程的成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 透射 电子显微镜 照射 样品 成功率 方法 | ||
【主权项】:
一种提高透射电子显微镜照射样品成功率的方法,其特征在于,包括以下步骤:提供一碳膜铜网和一样品,所述碳膜铜网包括碳膜和铜网;将所述样品放置在所述碳膜上表面;在所述样品的放置过程中,当所述碳膜破损、所述样品扭曲时,将扭曲的样品连同破损的碳膜重新提取起来,并放置在所述碳膜上表面完好的区域;用透射电子显微镜对所述样品进行拍照。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310597909.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种治疗禽畜痢疾的兽药
- 下一篇:一种治疗男性疾病的中药及其制法