[发明专利]一种闪耀凹面光栅制作方法有效

专利信息
申请号: 201310462037.1 申请日: 2013-09-29
公开(公告)号: CN103499851A 公开(公告)日: 2014-01-08
发明(设计)人: 周倩;倪凯;田瑞;李阳;许明飞;张锦超;逄锦超;董昊 申请(专利权)人: 清华大学深圳研究生院
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;G03F7/00
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人: 江耀纯
地址: 518055 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种闪耀凹面光栅制作方法,它可以解决现有闪耀凹面光栅复制方法误差大的问题。该方法为:通过复制工艺复制凹面闪耀光栅,复制完毕,保温、降温,然后分别将两块光栅以不同的拔取方式分离,最后将复制分离后的凹面光栅毛坯进行拼接,得到所需要的凹面闪耀光栅。
搜索关键词: 一种 闪耀 凹面 光栅 制作方法
【主权项】:
一种闪耀凹面光栅制作方法,其特征是包括如下步骤:A、制备凸面闪耀母光栅;B、准备凹面光栅复制基底并准备分割片;C、复制凹面光栅,复制时在凸面闪耀母光栅的中间直立地放置分割片,以便在凸面闪耀母光栅上复制出相互分立的两个光栅;D、分离凹面闪耀光栅:将分立的两个光栅分别从两个不同的方向拔取,从而将其从凸面闪耀母光栅上分离出来;E、拼接凹面光栅:将上述分离后的光栅进行拼接。
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