[发明专利]一种X射线层状多层膜闪耀光栅结构及其制作方法有效
申请号: | 201510078918.2 | 申请日: | 2015-02-13 |
公开(公告)号: | CN104698520B | 公开(公告)日: | 2017-04-05 |
发明(设计)人: | 王占山;黄秋实;杨笑微;伊葛·科谢尼可夫 | 申请(专利权)人: | 同济大学 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司31225 | 代理人: | 赵继明 |
地址: | 200092 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种X射线层状多层膜闪耀光栅结构及其制作方法,所述层状多层膜闪耀光栅结构包括闪耀光栅基底,所述闪耀光栅基底上设置有周期性分布的锯齿结构,形成的光栅周期为D,各锯齿结构均包括闪耀面和反闪耀面,所述闪耀面的中心区域镀制有多层膜堆。与现有技术相比,本发明克服了传统多层膜闪耀光栅(BMG)和层状多层膜光栅(LMG)的缺点;相比BMG解决了其在反闪耀面附近非复形生长区域膜层吸收大,导致实际衍射效率远低于理论值的问题;相比LMG,多层膜的倾角使其能在高级次获得极高的衍射效率。本发明能同时获得高效率和分辨率,可作为高精度X射线光谱测量的关键元件。 | ||
搜索关键词: | 一种 射线 层状 多层 闪耀 光栅 结构 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种X射线层状多层膜闪耀光栅结构,包括闪耀光栅基底,所述闪耀光栅基底上设置有周期性分布的锯齿结构,形成的光栅周期为D,各锯齿结构均包括闪耀面和反闪耀面,所述闪耀面的中心区域镀制有多层膜堆,其特征在于,所述多层膜堆横向宽度与光栅周期的比值为多层膜占宽比Γ,0<Γ<Γg,Γg为光栅占宽比,即闪耀面宽度与光栅周期的比值。
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