[发明专利]掩模条和使用掩模条制造有机发光二极管显示器的方法有效
申请号: | 201310369809.7 | 申请日: | 2013-08-22 |
公开(公告)号: | CN103852968B | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
发明(设计)人: | 洪宰敏;卢盈勳 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;H01L51/56 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 余朦;杨莘 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了用于制造有机发光二极管(OLED)显示器的掩模条。在一个方面,掩模条以长度方向延展并固定到框架。框架包括以矩阵形式设置的多个掩模图案单元,其中开口图案包括基本平行于宽度方向的多个行以及基本平行于长度方向的多个列,宽度方向与长度方向相交。行分别具有朝向掩模图案单元的中心凹入的曲率,列分别具有朝向掩模图案单元的边缘凸出的曲率。 | ||
搜索关键词: | 掩模条 使用 制造 有机 发光二极管 显示器 方法 | ||
【主权项】:
一种掩模条,在长度方向上延展并且固定至框架,所述掩模条包括:多个掩模图案单元,被布置为矩阵形式,其中开口图案包括平行于宽度方向的多个行以及平行于长度方向的多个列,所述宽度方向与所述长度方向相交,其中,所述多个行中的每一个具有朝向所述掩模图案单元的中心凹入的曲率,所述多个列中的每一个具有朝向所述掩模图案单元的边缘凸出的曲率。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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