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[发明专利]显示装置的制造装置和显示装置的制造方法-CN202310068610.4在审
发明人： 洪宰敏;琴智焕 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2023-02-06 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明的一实施例公开一种显示装置的制造装置和显示装置的制造方法。显示装置的制造装置包括：腔体；掩模组装体，收纳在所述腔体的内部，配置在显示基板的第一侧；沉积源，被配置成与所述掩模组装体相向，供给通过所述掩模组装体的沉积物质；以及磁力部，具备在与所述掩模组装体平行的第一平面上沿着第一方向延伸的多个磁铁，配置在所述显示基板的作为所述第一侧的相反侧的第二侧，所述磁力部在所述第一平面上沿着与所述第一方向交叉的方向往返移动。
显示装置制造装置方法

[发明专利]掩模组件及其制造方法以及使用其制造显示面板的方法-CN202310087059.8在审
发明人： 洪宰敏;罗成进;卢熙锡;李晟彻 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2023-01-19 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： C23C16/04 文献下载
摘要：提供了一种掩模组件及其制造方法以及使用该掩模组件制造显示面板的方法，所述掩模组件包括：框架，所述框架包括：长边部，在第一方向上延伸并且在与第一方向交叉的第二方向上彼此间隔开；以及短边部，连接到长边部，框架限定框架开口；第一杆部，在第二方向上延伸并且连接到框架；第一掩模片，限定第一沉积开口并且连接到第一杆部和框架，第一沉积开口的至少一部分在第一方向上布置并且在平面图中与框架开口叠置；以及第二掩模片，限定第二沉积开口并且连接到第一杆部和框架，第二沉积开口的至少一部分在第一方向上布置并且在平面图中与框架开口叠置。
模组及其制造方法以及使用显示面板

[实用新型]掩模组件-CN202320170359.8有效
发明人： 洪宰敏;罗成进;卢熙锡;李晟彻 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2023-01-19 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：提供了一种掩模组件，所述掩模组件包括：框架，所述框架包括：长边部，在第一方向上延伸并且在与第一方向交叉的第二方向上彼此间隔开；以及短边部，连接到长边部，框架限定框架开口；第一杆部，在第二方向上延伸并且连接到框架；第一掩模片，限定第一沉积开口并且连接到第一杆部和框架，第一沉积开口在平面图中与所述框架开口叠置；以及第二掩模片，限定第二沉积开口并且连接到第一杆部和框架，第二沉积开口在平面图中与所述框架开口叠置。根据公开的掩模组件可以包括一种类型的杆部以减少沉积层的阴影缺陷现象。
模组

[发明专利]掩模制造装置-CN202210368189.4在审
发明人：黄圭焕;金桢国;金辉;南刚铉;朴相河;李娥凛;赵恩翡;晋丞民;洪宰敏 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-03-30 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： B23K26/362 文献下载
摘要：本发明一实施例的掩模制造装置可以包括：台，支承对象掩模；以及光照射部，布置在所述台上，并且向所述对象掩模照射激光。对象掩模可以包括：对象掩模片，包括前表面和后表面；以及掩模框架，包括与后表面面对的上表面与上表面相对的下表面。台可以包括：第一支承部，支承对象掩模片：以及第二支承部，支承掩模框架，其中，第一支承部和第二支承部在厚度方向上具有阶梯差。
制造装置

[实用新型]掩模制造装置-CN202220723375.0有效
发明人：黄圭焕;金桢国;金辉;南刚铉;朴相河;李娥凛;赵恩翡;晋丞民;洪宰敏 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-03-30 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： B23K26/362 文献下载
摘要：本实用新型一实施例的掩模制造装置可以包括：台，支承对象掩模，其中，对象掩模可以包括：对象掩模片，包括前表面和后表面；以及掩模框架，包括与后表面面对的上表面与上表面相对的下表面。台可以包括：第一支承部，支承对象掩模片：以及第二支承部，支承掩模框架，其中，第一支承部和第二支承部在厚度方向上具有阶梯差。
制造装置

[发明专利]磁体组件-CN202210194041.3在审
发明人： 洪宰敏;柳钟赫;晋丞民 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-03-01 - 公布日： 2022-09-13 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种磁体组件包括支撑板和多个磁体，所述多个磁体被可移除地固定到所述支撑板并配置用以向沉积掩模施加磁力。所述多个磁体中的每个磁体包括面向所述支撑板的第一表面、与所述第一表面相反并面向所述沉积掩模的第二表面和限定在所述磁体中的磁体槽。
磁体组件

[实用新型]磁体组件-CN202220426477.6有效
发明人： 洪宰敏;柳钟赫;晋丞民 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-03-01 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种磁体组件包括支撑板和多个磁体，所述多个磁体被可移除地固定到所述支撑板并配置用以向沉积掩模施加磁力。所述多个磁体中的每个磁体包括面向所述支撑板的第一表面、与所述第一表面相反并面向所述沉积掩模的第二表面和限定在所述磁体中的磁体槽。
磁体组件

[实用新型]蒸镀掩模清洗装置-CN202123415927.6有效
发明人：金栽丰;姜爀;安昶昱;洪宰敏 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：公开一种蒸镀掩模清洗装置。蒸镀掩模清洗装置包括：处理水缸，盛装浸泡蒸镀掩模的处理水；处理水产生部，将处理水供应于所述处理水缸；处理水供应配管，连接所述处理水缸和所述处理水产生部；以及泡沫产生部，配置于所述处理水供应配管，并使得所述处理水中产生泡沫，所述处理水包括臭氧水、氢水、氨氢水以及碳酸水中的至少一种，所述泡沫包括气泡直径为50μm以下的微泡沫以及气泡直径为1μm以下的纳米泡沫中的至少一种。
蒸镀掩模清洗装置

[发明专利]蒸镀掩模清洗装置以及蒸镀掩模清洗方法-CN202111665950.2在审
发明人：金栽丰;姜爀;安昶昱;洪宰敏 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2022-07-19 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：公开一种蒸镀掩模清洗装置以及蒸镀掩模清洗方法。蒸镀掩模清洗装置包括：处理水缸，盛装浸泡蒸镀掩模的处理水；处理水产生部，将处理水供应于所述处理水缸；处理水供应配管，连接所述处理水缸和所述处理水产生部；以及泡沫产生部，配置于所述处理水供应配管，并使得所述处理水中产生泡沫，所述处理水包括臭氧水、氢水、氨氢水以及碳酸水中的至少一种，所述泡沫包括气泡直径为50μm以下的微泡沫以及气泡直径为1μm以下的纳米泡沫中的至少一种。
蒸镀掩模清洗装置以及方法

[发明专利]掩模组件、用其制造显示装置的设备和方法以及显示装置-CN202210048872.X在审
发明人： 洪宰敏;权韩郁;金柾勳;俞慈京;李守珍 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2017-08-04 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：提供了一种显示装置、掩模组件以及用于制造显示装置的设备和方法。掩模组件包括：掩模框架；至少两个掩模片，至少两个掩模片安装在掩模框架上，至少两个掩模片中的每个包括多个开口；以及至少两个薄屏蔽板，至少两个薄屏蔽板安装在掩模框架上，使得至少两个薄屏蔽板彼此间隔开以及屏蔽至少两个掩模片中的每个的多个开口的一部分，其中，至少两个掩模片和至少两个薄屏蔽板中的一个包括位于彼此间隔开的至少两个薄屏蔽板之间的屏蔽部，屏蔽部选择性地阻挡多个开口中的至少部分，从而形成具有除矩形或者正方形之外的形状的沉积区。
模组制造显示装置设备方法以及

[发明专利]沉积掩模、制造该沉积掩模的方法和制造显示面板的方法-CN202111091801.X在审
发明人：黄圭焕;金桢国;金辉;南刚铉;朴相河;李娥凜;郑茶姬;赵恩翡;晋丞民;洪宰敏 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-09-17 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明的实施例大致涉及沉积掩模、制造该沉积掩模的方法和制造显示面板的方法。根据本发明的实施例的用于制造显示面板的沉积掩模包括：金属基底，具有大约50微米至大约200微米的厚度和限定在该金属基底中的多个开口，其中所述开口中的至少一些包括沿着所述金属基底的厚度方向分别限定的具有第一宽度的第一开口和具有小于所述第一宽度的第二宽度的第二开口，并且其中所述金属基底包括第一部分和第二部分，所述第一开口被限定在所述第一部分中，所述第二开口被限定在所述第二部分中，所述第二部分具有沿着所述金属基底的所述厚度方向在从所述金属基底的顶表面向下的方向上增大的宽度。
沉积制造方法显示面板

[发明专利]掩模及制造掩模的方法-CN202110848278.4在审
发明人：金桢国;金辉;李娥凛;郑茶姬;黃圭焕;南刚铉;晋丞民;洪宰敏 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-07-27 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：提供了一种掩模及制造掩模的方法，所述掩模包括：掩模片，在平面图中设置有限定在其中的多个开口区域；以及掩模框架，支撑掩模片。掩模片包括：第一部分，包括第一表面，其中，第一表面被构造为与目标基底接触；以及第二部分，设置在第一部分上，在第一方向上从第一部分的顶部延伸并且包括限定多个开口区域的第二表面。第二表面是相对于第一方向向下倾斜的倾斜表面，并且第一方向平行于其中包括第一表面的平面。
制造方法

[发明专利]用于沉积装置的台结构和具有该台结构的沉积装置-CN202110295254.0在审
发明人：晋丞民;李相允;洪宰敏;金柾勳;南刚铉;李荣光 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-03-19 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：公开了一种台结构和具有该台结构的沉积装置。台结构包括：本体，其具有围绕供沉积物穿过的开口的闭环形状，并且具有平坦的上表面；以及位置可变固定部，具有用于固定将被沉积沉积物的对象物体的固定表面，并且与所述本体结合使得能够相对于所述本体进行相对运动，以沿着所述开口的外周均匀地保持所述对象物体的竖直位置。即使在结合至台的掩模组件与台之间存在异物时，也可以通过防止掩模组件的变形来保持足够的平整度。因此，可以防止由台上的异物引起的沉积缺陷。
用于沉积装置结构具有

[发明专利]掩模组件、用其制造显示装置的设备和方法以及显示装置-CN201710659182.7有效
发明人： 洪宰敏;权韩郁;金柾勳;俞慈京;李守珍 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2017-08-04 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：提供了一种显示装置、掩模组件以及用于制造显示装置的设备和方法。掩模组件包括：掩模框架；至少两个掩模片，至少两个掩模片安装在掩模框架上，至少两个掩模片中的每个包括多个开口；以及至少两个薄屏蔽板，至少两个薄屏蔽板安装在掩模框架上，使得至少两个薄屏蔽板彼此间隔开以及屏蔽至少两个掩模片中的每个的多个开口的一部分，其中，至少两个掩模片和至少两个薄屏蔽板中的一个包括位于彼此间隔开的至少两个薄屏蔽板之间的屏蔽部，屏蔽部选择性地阻挡多个开口中的至少部分，从而形成具有除矩形或者正方形之外的形状的沉积区。
模组制造显示装置设备方法以及

[发明专利]掩模组件以及显示装置的制造装置-CN202110081214.6在审
发明人： 洪宰敏;晋丞民;卢熙锡 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-01-21 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： H01L21/033 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模组件以及显示装置的制造装置。本发明包括：掩模框架，配备有第一开口部；支撑部件，沿第一方向以及第二方向中的至少一个方向排列，并且布置于所述掩模框架，以将所述第一开口部划分为至少一个第二开口部以及至少一个第三开口部；以及划分部件，布置为与所述支撑部件重叠。
模组以及显示装置制造装置

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