[发明专利]包含酰胺组分的光致抗蚀剂有效
| 申请号： | 201310364299.4 | 申请日： | 2013-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN103513514B | 公开（公告）日： | 2018-12-28 |
| 发明（设计）人： | 刘骢;C·吴;G·珀勒斯;G·P·普罗科普维茨;李明琦;C-B·徐 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 江磊 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了一种新颖的光致抗蚀剂组合物，该组合物包含一种组分，所述组分含有酰胺基团和多个羟基。优选地，本发明的光致抗蚀剂可以包含：具有光生酸不稳定性基团的树脂；光致产酸剂化合物；以及酰胺组分，所述酰胺组分包含多个羟基，可以用来减少光致酸从光致抗蚀剂涂层未曝光的区域扩散到外部的不利现象。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 组分 光致抗蚀剂 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂组合物，其包含：(a)树脂；(b)光致产酸剂化合物；和(c)一种酰胺化合物，其包含i)一个酰胺基团和ii)两个、三个、四个、五个或六个羟基；其中所述的酰胺化合物符合下述化学式(I)所示的结构：![]()
R1是任选被羟基取代的(C1‑C30)烷基，R2和R3独立地为氢或任选被羟基取代的(C1‑C30)烷基，R1，R2和R3总体包括两个、三个、四个、五个或六个羟基。
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