[发明专利]喷淋头以及气相沉积反应腔无效
申请号: | 201310345361.5 | 申请日: | 2013-08-08 |
公开(公告)号: | CN103436857A | 公开(公告)日: | 2013-12-11 |
发明(设计)人: | 田益西;黄允文 | 申请(专利权)人: | 光垒光电科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
地址: | 200050 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种喷淋头以及包括所述喷淋头的气相沉积反应腔。所述喷淋头包括壳体部和密封部,所述壳体部包括相对间隔设置的顶板和底板以及多个第一气管,所述多个第一气管贯穿所述顶板和底板并与所述顶板和底板相互固定;所述壳体部具有开口,所述密封部用于密封所述壳体部的开口。由于开口的存在,使得对喷淋头内部进行的清洗变得方便,可以更好的控制喷淋头内部的洁净度。 | ||
搜索关键词: | 喷淋 以及 沉积 反应 | ||
【主权项】:
一种喷淋头,用于向反应区域提供反应气体,所述喷淋头包括壳体部和密封部,所述壳体部包括相对间隔设置的顶板和底板以及多个第一气管,所述多个第一气管贯穿所述顶板和底板并与所述顶板和底板相互固定,所述反应区域位于所述底板远离顶板的一侧;其特征在于:所述壳体部具有开口,所述密封部用于密封所述壳体部的开口。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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