[发明专利]导电图案的形成方法、导电图案基板和触摸面板传感器有效
| 申请号： | 201310246632.1 | 申请日： | 2012-10-01 |
| 公开（公告）号： | CN103336409A | 公开（公告）日： | 2013-10-02 |
| 发明（设计）人： | 山崎宏;五十岚由三 | 申请（专利权）人： | 日立化成株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 钟晶;於毓桢 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及导电图案的形成方法、导电图案基板和触摸面板传感器。本发明的导电图案的形成方法具有如下工序：对感光层以图案状照射活性光线的第一曝光工序，所述感光层包含在基板上设置的感光性树脂层和在感光性树脂层的与基板相反侧的面上设置的导电膜；在氧存在下，对感光层的至少第一曝光工序中的未曝光部的一部分或全部照射活性光线的第二曝光工序；以及在第二曝光工序之后通过对感光层进行显影而形成导电图案的显影工序。 | ||
| 搜索关键词： | 导电 图案 形成 方法 触摸 面板 传感器 | ||
【主权项】：
一种导电图案的形成方法，具有如下工序：对感光层以图案状照射活性光线的第一曝光工序，所述感光层包含在基板上设置的感光性树脂层和在该感光性树脂层的与所述基板相反侧的面上设置的导电膜；在氧存在下，对所述感光层的至少第一曝光工序中的未曝光部的一部分或全部照射活性光线的第二曝光工序；以及在所述第二曝光工序之后通过对所述感光层进行显影而形成导电图案的显影工序。
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