[发明专利]用于化学气相沉积设备的馈通装置

摘要

本发明公开了一种用于化学气相沉积设备的馈通装置，该馈通装置包含有：i）馈通主体；ii）多个滑道单元以及iii）可相对于多个滑道单元旋转的馈通设备。滑道单元被提供在馈通主体的内部，而每个滑道单元包含有：流体输入通道，用于接收流体；延伸的滑道，其和流体输入通道进行流体互通，以接收来自流体输入通道的流体，该延伸的滑道螺旋式延展在该滑道单元的表面上。该馈通设备包含有多个馈通设备流体通道，馈通设备流体通道包含有用于接收来自相应的延伸的滑道的流体的馈通设备流体传送孔和用于将流体释放进入反应腔室的馈通设备流体排出孔。特别是，在馈通设备旋转期间每个馈通设备流体传送孔和相应的延伸的滑道进行流体互通，以接收来自相应的延伸的滑道的流体，而每个馈通设备流体排出孔被提供来将流体释放进入反应腔室。

主权项

一种用于化学气相沉积设备的馈通装置，该馈通装置包含有：馈通主体；多个滑道单元，其被提供在馈通主体的内部，而每个滑道单元包含有：   流体输入通道，用于接收流体；和   延伸的滑道，其和流体输入通道进行流体互通，以接收来自流体输入通道的流体，该延伸的滑道螺旋式延展在该滑道单元的表面上；以及馈通设备，其可相对于多个滑道单元旋转，该馈通设备包含有多个馈通设备流体通道，每个馈通设备流体通道包含有至少一个馈通设备流体传送孔和至少一个馈通设备流体排出孔，在馈通设备旋转期间每个馈通设备流体传送孔和相应的延伸的滑道进行流体互通，以接收来自相应的延伸的滑道的流体，每个馈通设备流体排出孔被提供来将流体释放进入反应腔室。